[发明专利]用于处理基板的设备和方法

权利要求书

1.一种基板处理设备，包括：

工艺模块，所述工艺模块包括多个工艺单元，所述多个工艺单元被配置成执行基板处理工艺中包括的多个步骤，其中，所述工艺单元基于用于顺序放置在所述工艺单元中的基板的工艺配方而对所述基板执行所述基板处理工艺；

调度器，所述调度器被配置成控制所述工艺模块和所述工艺模块中包括的所述工艺单元的操作；

存储器，所述存储器被配置成存储所述基板的传送路径信息；

选择模块，所述选择模块被配置成根据将所述存储器中所存储的所述传送路径信息反馈给所述调度器的结果来选择要继续执行的工艺单元；以及

测量仪器，所述测量仪器被配置成测量所述传送路径信息的缺陷值，所述基板被沿所述传送路径信息传送，

其中，所述存储器存储所述基板能够沿着行进的所有路径的模拟结果并且进一步存储根据模拟的所有路径而测量的所述缺陷值，

其中，所述选择模块基于存储在所述存储器中的所述缺陷值将加权值应用于所述基板的所述传送路径信息中包括的所述工艺单元。

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述存储器进一步存储由所述测量仪器根据所述基板的所述传送路径信息测量的所述缺陷值。

3.一种基板处理方法，包括：

由工艺单元基于用于插入所述工艺单元中的基板的工艺配方而分别对所述基板执行工艺；

通过调度器来控制所述工艺；

存储所述基板的传送路径信息；以及

利用测量仪器，根据所述基板的所述传送路径信息来测量缺陷值，

其中，所述调度器通过基于存储有所述基板的传送路径信息的数据库执行反馈的结果来选择将执行工艺的工艺单元，并且

其中，存储所述基板的所述传送路径信息还包括：存储所述基板能够沿着行进的所有路径的模拟结果并且进一步存储根据模拟的所有路径而测量的所述缺陷值，

其中，所述方法还包括：

基于所存储的缺陷值将加权值应用于所述基板的所述传送路径信息中包括的所述工艺单元。

4.根据权利要求3所述的基板处理方法，还包括：

基于通过应用所述加权值获得的结果来确定优先级；以及

在应用所述加权值的所述工艺单元当中选择具有最高优先级的工艺单元。

5.根据权利要求4所述的基板处理方法，其中，测量所述缺陷值包括：

利用在所述基板处理工艺之前和之后安装的所述测量仪器来测量所述缺陷值。