[发明专利]具光学特性调控的透明导电膜结构

说明书

一种具光学特性调控的透明导电膜结构，包括有：一基材、一纳米导电材及一纳米粒子；其中，该纳米导电材以涂布方式均匀布设于该基材上；该纳米粒子之粒径在1nm～20nm之间，该纳米粒子以涂布方式均匀布设于该基材上，且该纳米粒子在该基材上占据的空间比率为1％～25％；藉此，通过该纳米导电材与该纳米粒子均匀混合于基材上，形成一可调控折射率的导电薄膜。

技术领域

本发明系一种具光学特性调控的透明导电膜结构，尤指一种于一透明导电膜上，加入适当的纳米粒子在导电层中，达到改变导电层的等效折射率之结构。

背景技术

按，近年来3C产品普遍都具有触控的功能，触控功能使得电子产品与用户之间的距离更近。而在触控产品上，如果搭配显示器产品，则触控薄膜对光学性能要求会更高。因此如何降低触控薄膜的反射率以及提高穿透率将会是一个重要的技术重点。

请参阅图1、2所示，一般光线照射在薄膜层，可以将光线的作用分为三个部份:穿透、反射、吸收，如图1所示。薄膜层的吸收率(A)是与材料本身特性相关。因此，若要提升薄膜层的穿透率(T)，降低反射率(R)将是一个重要的方法。换句话说，制作良好的抗反射层会是提升薄膜层的穿透率达到优异的光学性能的一种重要方法。而降低光线反射的抗反射层通常是利用渐进折射率和多层膜干涉两种方法来达到降低反射率的目标。如图2所示，当光进入不同折射率的薄膜时，在每个界面会有反射光产生。藉由控制薄膜的折射率、厚度使得反射光R1、R2、R3能够产生干涉、产生相消性进而达到降低反射光。而渐进折射率是藉由调控折射率降低薄膜材料跟空气之间的折射率差异，以达到光线从空气入射至薄膜材料时反射率降低的效果。

本专利所揭露的技术是应用在新型态的透明导电膜上的具光学特性调控的结构方式。如果导电层想要降低入射光的反射率，则导电层的折射率会是一个关键因子。

不同于传统ITO(铟锡氧化物)的透明导电膜，新型态透明导电膜是指利用纳米线(如:纳米银线、纳米碳管)构成网络的导电膜，在导电膜层中，纳米线与纳米线之间存在许多空隙。而导电膜层的折射率是由纳米线材料折射率(n1)和空隙中的空气折射率(n2)两种折射率所共同贡献成导电膜层的“等效折射率”。由于纳米线的分布密度与导电膜的导电性能有强烈相关。当导电层决定了所需求的导电性能(由纳米线的分布密度决定导电性能)，则该导电层的折射率就被限制了。

由此可见，上述习用物品仍有诸多缺失，实非一良善之设计者，而亟待加以改良。

发明内容

有鉴于此，本案发明人本于多年从事相关产品之制造开发与设计经验，针对上述之目标，详加设计与审慎评估后，终得一确具实用性之本发明。

本发明之目的，在提供一种具光学特性调控的透明导电膜结构，系于一透明导电膜上，加入适当的纳米粒子在导电层中，使在相同的导电性能下，导电层能够调整等效折射率到最佳值，达到降低反射光的功效。

根据上述之目的，本发明之具光学特性调控的透明导电膜结构，其主要系包括有：一基材、一纳米导电材及一纳米粒子；其中，该纳米导电材以涂布方式均匀布设于该基材上；该纳米粒子之粒径在1nm～20nm之间，该纳米粒子以涂布方式均匀布设于该基材上，且该纳米粒子在该基材上占据的空间比率为1％～25％；藉此，通过该纳米导电材与该纳米粒子均匀混合于基材上，形成一可调控折射率的导电薄膜。

为便贵审查委员能对本发明之目的、形状、构造装置特征及其功效，做更进一步之认识与了解，兹举实施例配合图式，详细说明如下：

附图说明

图1为当光线照射到物质时，光线的反应分为:穿透(T)、反射(R)以及吸收(A)三种反应之平面示意图。

图2为光入射至多层薄膜时，各界面会有反射率，调控适当厚度与折射率，使各界面反射光能达到相消干涉之平面示意图。

图3为本发明具光学特性调控的透明导电膜结构之外观示意图.