[发明专利]一种基板及其制备方法、显示面板

权利要求书

1.一种基板，其特征在于，包括：衬底、设置于所述衬底上的挡墙和触控结构；

所述触控结构包括多个间隔排布的第一触控电极和多个间隔排布的第二触控电极；所述第一触控电极和所述第二触控电极相互交叉，且相对所述第二触控电极，所述第一触控电极更靠近所述衬底；所述第二触控电极包括多个沿所述第二触控电极的延伸方向上的第一子电极、以及在所述第二触控电极的延伸方向上用于连接任意相邻两个所述第一子电极的第二子电极；

所述挡墙限定出多个开口区，多个所述开口区中一一对应设置一个光转换结构；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极在其交叉位置处，通过所述光转换结构绝缘；

所述挡墙包括多个间隔排布的子挡墙，所述子挡墙的延伸方向与所述第一触控电极的延伸方向相同；任意相邻所述子挡墙之间的区域为一个所述开口区；

所述子挡墙上设置有多个凹槽，多个所述第二子电极一一对应的位于一个所述凹槽内；

在所述凹槽的远离所述第二子电极一侧还设置有引流结构，所述引流结构的侧面与所述挡墙之间存在空隙，所述第一子电极通过该空隙与所述第二子电极电连接；所述引流结构具有亲液性；

其中，所述子挡墙具有疏液性；所述第一子电极采用喷墨打印工艺形成，包含所述第一子电极的材料的墨水与所述引流结构是相互亲和的。

2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述第一触控电极一一对应的位于一个所述开口区内；其中，所述子挡墙的高度高于所述第一触控电极的高度。

3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，还包括设置于所述第一触控电极和所述光转换结构之间的缓冲层；所述缓冲层在所述衬底上的正投影覆盖所述第一触控电极。

4.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，还包括设置于所述第二触控电极远离所述衬底一侧的保护层。

5.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述挡墙的厚度为8~12μm；

和/或，所述引流结构的厚度为2~3μm；

和/或，所述第二子电极的厚度为2000~3000Å。

6.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，多个所述光转换结构包括红色光转换结构、绿色光转换结构以及蓝色光转换结构；

或者，

多个所述光转换结构包括红色光转换结构、绿色光转换结构以及透明绝缘结构；所述透明绝缘结构用于透射蓝光。

7.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的基板。

8.一种基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底上依次形成多个间隔排布的第一触控电极和多个间隔排布的第二触控电极；所述第一触控电极和所述第二触控电极相互交叉；所述第二触控电极包括多个沿所述第二触控电极的延伸方向上的第一子电极、以及在所述第二触控电极的延伸方向上用于连接任意相邻两个所述第一子电极的第二子电极；

在形成所述第二触控电极之前，所述基板的制备方法还包括：形成挡墙，所述挡墙限定出多个开口区；在多个所述开口区内一一对应形成一个光转换结构；其中，所述第一触控电极和所述第二触控电极在其交叉位置处，通过所述光转换结构绝缘；

所述挡墙在所述第一触控电极之前形成；所述挡墙包括多个间隔排布的子挡墙，所述子挡墙的延伸方向与所述第一触控电极的延伸方向相同；任意相邻所述子挡墙之间的区域为一个所述开口区；

形成所述挡墙，包括：利用灰阶掩膜板形成包括多个间隔排布的子挡墙的所述挡墙，其中，所述子挡墙在与待形成所述第二子电极一一对应的区域内具有凹槽；

形成所述第二触控电极包括：

在所述凹槽内形成所述第二子电极；

在所述凹槽的远离所述第二子电极一侧形成引流结构；所述引流结构具有亲液性；所述引流结构的侧面与所述子挡墙之间存在空隙；

采用喷墨打印工艺，沿待形成所述第二触控电极的方向上在所述光转换结构远离所述衬底一侧形成所述第一子电极；所述第一子电极通过所述空隙与所述第二子电极电连接；

其中，所述子挡墙具有疏液性；包含所述第一子电极的材料的墨水与所述引流结构是相互亲和的。

9.根据权利要求8所述的基板的制备方法，其特征在于，形成所述第一触控电极包括：采用喷墨打印工艺，在所述开口区内一一对应形成所述第一触控电极；其中，所述子挡墙的高度高于所述第一触控电极的高度。