[发明专利]一种N型晶体硅电池的制备方法在审
申请号: | 201910671184.7 | 申请日: | 2019-07-24 |
公开(公告)号: | CN110571302A | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 杨智;魏青竹;倪志春 | 申请(专利权)人: | 苏州腾晖光伏技术有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/068;H01L31/0216 |
代理公司: | 32103 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 李萍 |
地址: | 215542 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硼掺杂 放入 薄层 沉积 漂浮 载流子选择性 金属化工艺 生长氧化物 表面氧化 多晶硅层 碱性溶液 减反射层 结构电池 磷硅玻璃 漏电问题 硼硅玻璃 溶液处理 钝化层 磷掺杂 磷元素 氧化物 钝化 去除 制备 制绒 背面 掺杂 电池 | ||
1.一种N型晶体硅电池的制备方法,其特征在于,依次包括如下步骤:
A、对制绒后的N型晶体硅片进行单面硼掺杂;
B、将硼掺杂后的N型晶体硅片的硼掺杂面向上,以漂浮的方式放入第一溶液中处理,所述第一溶液包括HF、HNO3、H2SO4中的至少一种;
C、在N型晶体硅片的另一面生长氧化物薄层;
D、在氧化物薄层上沉积多晶硅层,并掺杂磷元素;
E、将N型晶体硅片上的磷掺杂面向上,以漂浮的方式放入第二溶液中处理,所述第二溶液包括HF、HNO3、H2SO4中的至少一种;
F、将经第二溶液处理后的N型晶体硅片放入碱性溶液中处理;
G、将经碱性溶液处理后的N型晶体硅片的表面上的磷硅玻璃和硼硅玻璃去除;
H、将N型晶体硅片的表面氧化;
I、在N型晶体硅片上的硼扩散面沉积钝化减反射层,在磷扩散面沉积钝化层;
J、进行金属化工艺形成正面金属电极和背面金属电极。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤B中,先在N型晶体硅片的硼掺杂面形成水膜,然后以漂浮的方式放入第一溶液中处理;所述步骤E中,先在N型晶体硅片的磷掺杂面形成水膜,然后漂浮的方式放入第二溶液中处理。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤B具体实施如下:在N型晶体硅片的硼掺杂面形成水膜,采用链式传输装置传输N型晶体硅片,使N型晶体硅片的硼掺杂面向上并以漂浮的方式通过第一溶液。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述第一溶液为HF、HNO3、H2SO4和去离子水组成的混合溶液,所述链式传输装置的传输速度为1.8~2.2m/s。
5.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤E具体实施如下:在N型晶体硅片的磷掺杂面形成水膜,采用链式传输装置传输N型晶体硅片,使N型晶体硅片的磷掺杂面向上并以漂浮的方式通过第二溶液。
6.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述第二溶液为HF和去离子水构成的溶液,HF体积浓度为3~7%,所述链式传输装置的传输速度为1.6~2.0m/s。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤F中的碱性溶液为体积浓度为2~5%的KOH溶液。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤C中的氧化物薄层为氧化硅薄层;所述步骤D中,在沉积多晶硅层的过程中或在沉积多晶硅层后掺杂磷元素。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤H具体实施如下:将N型晶体硅片进行氧化,再去除表面的氧化物,然后将N型晶体硅片的表面氧化。
10.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤I中,在N型晶体硅片上的硼扩散面依次沉积氧化铝层和氮化硅层,在N型晶体硅片上的磷扩散面上沉积氮化硅层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的