[发明专利]用于光刻的涂料组合物在审
| 申请号： | 201910672506.X | 申请日： | 2007-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN110488571A | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | M·K·噶拉格尔;A·赞皮尼 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 樊云飞<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机组合物 光致抗蚀剂组合物层 可固化组合物 硬掩模组合物 基底 热处理 辐射处理 灰化 碱溶 可用 | ||
【权利要求书】：
1.一种制备电子器件的方法，包括：
将可固化组合物涂布到基底上；
将硬掩模组合物涂布在所述可固化组合物之上；
将光致抗蚀剂组合物层涂布在所述硬掩模组合物之上，
其特征在于，所述组合物的一种或多种用无灰化方法除去。
2.权利要求1所述的方法，其特征在于，所述可固化组合物曝光于活化辐射中以固化所涂布的组合物。
3.权利要求2所述的方法，其特征在于，将含硅的硬掩模组合物涂布在所述固化组合物之上。
4.一种制备电子器件的方法，包括：
将有机组合物涂布到基底上；
将光致抗蚀剂组合物层涂布在所述有机组合物之上；
其特征在于，所述有机组合物包含一种当热处理和/或辐射处理时能产生碱溶基团的材料。
5.权利要求4所述的方法，其特征在于，所述有机组合物包含具有对光致酸不稳定基团的树脂。
6.权利要求4所述的方法，其特征在于，所述有机组合物包含具有酸酐基团的树脂。
7.权利要求4所述的方法，其特征在于，在涂布所述光致抗蚀剂组合物前，对所述有机组合物进行热处理。
8.一种底层涂层组合物，其包含一种或多种含有对热不稳定或对酸不稳定基团的组分，并且所述组合物至少基本上没有单独的交联剂组分。
9.权利要求8的涂层组合物，其特征在于，所述组合物包含具有一种或多种发色基团的组分。
10.权利要求8的涂层组合物，其特征在于，所述组合物包含酸或酸产生体化合物。
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