[发明专利]曝光方法以及曝光装置

权利要求书

1.一种曝光方法，其中，生成与照射区域的对准偏差对应地变更了狭缝宽度的校正曲线，根据上述校正曲线的上述狭缝宽度，设定在各坐标能够得到所期望的曝光量的、载放光掩膜的光掩膜台与载放被加工物的载台之间的相对的曝光扫描速度，按照上述校正曲线和上述曝光扫描速度，一边对曝光狭缝的上述狭缝宽度、上述光掩膜台以及上述载台进行控制，一边执行曝光处理，上述校正曲线的生成包括：取得对准偏差数据；生成与上述对准偏差数据对应的偏差校正波形；计算上述偏差校正波形的各坐标的偏差指标；取得规定了上述偏差指标与上述狭缝宽度之间的反比例关系的狭缝宽度设定信息，并设定狭缝宽度条件；以及参照上述狭缝宽度条件，生成设定了与各坐标的上述偏差指标对应的上述狭缝宽度的上述校正曲线。

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，上述校正曲线的生成还包括：判定上述校正曲线与上述偏差校正波形之差是否在允许范围内，在上述曝光扫描速度的设定中，在上述差在允许范围内的情况下设定上述曝光扫描速度。

3.根据权利要求2所述的曝光方法，其中，上述狭缝宽度设定信息以上述偏差指标的绝对值越小则上述狭缝宽度越大的方式将多个上述狭缝宽度与上述偏差指标建立对应，上述校正曲线的生成还包括：在上述差不在允许范围内的情况下，根据上述狭缝宽度设定信息，将当前设定的上述狭缝宽度的次大的狭缝宽度重新设定于上述狭缝宽度条件；以及之后，执行上述校正曲线的生成。

4.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，上述狭缝宽度设定信息将上述偏差指标分割为多个范围，并针对各个上述范围设定狭缝宽度。

5.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，上述狭缝宽度是通过装置能够设定的范围。

6.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，上述对准偏差数据是实际测量曝光位置的偏差而得到的数据、或者是通过模拟而得到的数据。

7.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，上述偏差指标是上述偏差校正波形的各坐标位置处的对准偏差量、或者是上述偏差校正波形的各坐标位置处的斜率。

8.一种曝光装置，具备：曝光处理部，其具备：光源；光掩膜台，载放光掩膜，能够在与上述光掩膜的载放面平行的方向上移动；照明光学系统，将来自上述光源的光照射到上述光掩膜；载台，载放被加工物，能够在与上述被加工物的载放面平行的方向上移动；投影光学系统，将通过了上述光掩膜的光投影到上述载台上的上述被加工物；以及曝光狭缝，调整来自上述照明光学系统的光的照射量，并能够变更狭缝宽度；以及控制部，对上述曝光处理部进行控制，上述控制部为，在上述被加工物的照射区域的曝光处理中，与上述被加工物的对准偏差量对应地变更上述曝光狭缝的狭缝宽度以及上述光掩膜台与上述载台之间的相对的曝光扫描速度，生成与曝光区域的对准偏差对应地变更了狭缝宽度的校正曲线，根据上述校正曲线的上述狭缝宽度，设定在各坐标能够得到所期望的曝光量的、上述光掩膜台与上述载台之间的相对的曝光扫描速度，按照上述校正曲线与上述曝光扫描速度，一边对曝光狭缝的上述狭缝宽度、上述光掩膜台以及上述载台进行控制，一边执行上述曝光处理，上述控制部在上述校正曲线的生成中，取得对准偏差数据，生成与上述对准偏差数据对应的偏差校正波形，计算上述偏差校正波形的各坐标的偏差指标，取得规定了上述偏差指标与上述狭缝宽度之间的反比例关系的狭缝宽度设定信息，并设定狭缝宽度条件，参照上述狭缝宽度条件，生成设定了与各坐标的上述偏差指标对应的上述狭缝宽度的上述校正曲线。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其中，上述控制部为，在上述校正曲线的生成中还执行：判定上述校正曲线与上述偏差校正波形之差是否在允许范围内，在上述曝光扫描速度的设定中，在上述差在允许范围内的情况下设定上述曝光扫描速度。