[发明专利]曝光装置有效

专利信息
申请号: 201910678844.4 申请日: 2019-07-25
公开(公告)号: CN110865516B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 水野博文;茂野幸英 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;李平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置
【权利要求书】:

1.一种曝光装置,其特征在于,具备:

发光部,其具有分别发出光的多个发光区域;

微透镜阵列部,其具有有效区域和非有效区域,其中,上述有效区域包括分别位于上述多个发光区域分别所发出的光的路径上的多个微透镜,上述非有效区域在与上述多个微透镜的光轴垂直的方向上位于上述有效区域的外侧,并且包括调整用标识;以及

传感器部,其具有处于沿第一方向排列的状态的多个受光元件和处于沿与上述第一方向交叉的第二方向排列的状态的多个受光元件,

该传感器部能够输出与调整用光点和上述调整用标识的相对位置关系相关的信号,其中,上述调整用光点是在从上述发光部发出并通过上述非有效区域中的包括上述调整用标识的区域的光的路径上,从上述多个发光区域中的调整用发光区域发出并向上述非有效区域照射的光所形成的光点,

上述调整用标识具有用于遮挡上述调整用光点的一部分的朝向上述传感器部的光的通过的图案,

上述调整用标识具有多个透光部,该透光部分别具有与照射到上述微透镜阵列部上的光形成的上述调整用光点的1个像素大小对应的形状及尺寸,

上述图案包含设在上述多个透光部之间的遮光部,

以在上述有效区域分别沿着垂直于上述光轴的第三方向及第四方向以预定的间距呈矩阵状地排列的上述多个微透镜的位置为基准,上述多个透光部存在于在上述第三方向及上述第四方向分别偏离上述预定间距的一半的矩阵状的位置。

2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,

上述微透镜阵列部包括处于一体构成有上述多个微透镜的状态的微透镜阵列,

该微透镜阵列包括上述非有效区域。

3.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,

上述微透镜阵列部具有上述非有效区域分别包括的第一调整用标识和第二调整用标识,

上述传感器部能够输出与第一调整用光点和上述第一调整用标识的第一相对位置关系相关的信号,并且能够输出与第二调整用光点和上述第二调整用标识的第二相对位置关系相关的信号,其中,上述第一调整用光点是从上述多个发光区域中的第一调整用发光区域发出并向上述非有效区域照射的光所形成的光点,上述第二调整用光点是从上述多个发光区域中的第二调整用发光区域发出并向上述非有效区域照射的光所形成的光点。

4.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,

上述传感器部包括区域传感器,该区域传感器具有处于二维地排列的状态的多个受光元件。

5.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,还具备:

驱动部,其能够使上述发光部以及上述微透镜阵列部中的至少一方的可动部移动;以及

控制部,其根据与上述相对位置关系相关的信号,利用上述驱动部使上述至少一方的可动部移动,从而调整上述多个发光区域与上述多个微透镜的相对位置关系。

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