[发明专利]一种表面羟基化氧化铁薄膜光阳极材料的制备方法

权利要求书

1.一种表面羟基化氧化铁薄膜光阳极材料的制备方法，其特征在于由以下步骤组成：

1）氧化铁薄膜的制备：配制一定浓度的无机铁盐和硝酸钠的水溶液，搅拌混合均匀；将混合溶液转入到染色缸内，垂直插入FTO导电玻璃，密封，放入40-180℃电热恒温干燥箱内反应1-8h；然后取出染色缸，自然冷却至室温，取出FTO玻璃，水洗，室温下干燥，最后700-850℃高温煅烧5-120min，即得氧化铁薄膜电极；所述氧化铁薄膜电极为氧化铁纳米线阵列；

2）等离子体处理氧化铁薄膜电极：将制备好的氧化铁薄膜电极放入低温等离子清洗机内，设置等离子体的处理参数：处理时间和功率，外界气体，调节气体流量，处理完毕即得表面羟基化的氧化铁薄膜光阳极材料；

步骤2所述等离子体的处理参数：处理时间为60-5000s，功率为5-300W。

2.根据权利要求1所述的一种表面羟基化氧化铁薄膜光阳极材料的制备方法，其特征在于步骤1所述无机铁盐为氯化铁、硝酸铁、硫酸铁、高氯酸铁中的一种或者几种。

3.根据权利要求1所述的一种表面羟基化氧化铁薄膜光阳极材料的制备方法，其特征在于步骤1所述无机铁盐浓度为0.01-0.5mol/L，硝酸钠浓度为0.1-20mol/L。

4.根据权利要求1所述的表面羟基化氧化铁薄膜光阳极材料的制备方法，其特征在于，步骤2所述外界气体为空气、氧气或者氮气中的一种。

5.根据权利要求1所述的表面羟基化氧化铁薄膜光阳极材料的制备方法，其特征在于，步骤2所述气体流量为200-520mL /min。