[发明专利]X射线透射检查装置和X射线透射检查方法在审

专利信息
申请号: 201910681428.X 申请日: 2019-07-26
公开(公告)号: CN110793985A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 的场吉毅 申请(专利权)人: 日本株式会社日立高新技术科学
主分类号: G01N23/046 分类号: G01N23/046
代理公司: 11127 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 孙明浩;崔成哲
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 二维传感器 透射检查装置 试样移动 运算部 图像 透射 像素 加法处理 像素检测 移动方向 位置处 检测 读出 相加 相距 移动 检查
【权利要求书】:

1.一种X射线透射检查装置,其特征在于,

该X射线透射检查装置具有:

X射线源,其对试样照射X射线;

二维传感器,其相对于所述试样设置在与所述X射线源相反的一侧,检测透射了所述试样的所述X射线;

试样移动机构,其能够使所述试样在与所述二维传感器的检测面平行的固定的移动方向上以恒定的移动速度进行移动;

运算部,其对由所述二维传感器检测出的所述X射线的图像进行处理;以及

显示部,其能够显示基于由所述运算部处理后的所述图像的截面像,

所述二维传感器具有呈格子状排列的作为摄像元件的多个像素,能够以恒定的帧速率一次读出通过所有的所述像素检测到的所述图像,

在将所述移动速度设为V1、将所述帧速率设为F、将所述二维传感器的像素间距设为A、将从所述X射线源到所述二维传感器的距离设为LS时,所述运算部进行沿着所述移动方向对每隔(LS×V1)/(L×F×A)的所述像素的所述图像进行持续相加的加法处理,从而生成与所述X射线源相距L的位置处的所述试样的截面像。

2.根据权利要求1所述的X射线透射检查装置,其特征在于,

在所述运算部生成与所述X射线源相距L1的位置处的所述试样的截面像和与所述X射线源相距L2的位置处的所述试样的截面像,并使所述显示部进行显示时,进行使与所述X射线源相距L1的位置处的所述试样的截面像的显示尺寸为L1/L2倍的校正处理而进行显示。

3.根据权利要求1或2所述的X射线透射检查装置,其特征在于,

该X射线透射检查装置具有试样旋转机构,该试样旋转机构能够变更所述试样相对于所述X射线源的朝向,

所述运算部生成通过所述试样旋转机构而改变所述试样的朝向从而使所述X射线从不同方向透射了所述试样而得到的多个所述试样的截面像。

4.一种X射线透射检查方法,其特征在于,

该X射线透射检查方法具有如下步骤:

从X射线源对试样照射X射线;

利用二维传感器检测透射了所述试样的所述X射线,该二维传感器相对于所述试样设置在与所述X射线源相反的一侧;

使所述试样在与所述二维传感器的检测面平行的固定的移动方向上以恒定的移动速度进行移动;

对由所述二维传感器检测出的所述X射线的图像进行运算处理;以及

在显示部显示基于所述运算处理后的所述图像的截面像,

所述二维传感器具有呈格子状排列的作为摄像元件的多个像素,能够以恒定的帧速率一次读出通过所有的所述像素检测到的所述图像,

在将所述移动速度设为V1、将所述帧速率设为F、将所述二维传感器的像素间距设为A、将从所述X射线源到所述二维传感器的距离设为LS时,在所述运算处理的步骤中,进行沿着所述移动方向对每隔(LS×V1)/(L×F×A)的所述像素的所述图像进行持续相加的加法处理,从而生成与所述X射线源相距L的位置处的所述试样的截面像。

5.根据权利要求4所述的X射线透射检查方法,其特征在于,

在所述运算处理的步骤中,在生成与所述X射线源相距L1的位置处的所述试样的截面像和与所述X射线源相距L2的位置处的所述试样的截面像,并使所述显示部进行显示时,进行使与所述X射线源相距L1的位置处的所述试样的截面像的显示尺寸为L1/L2倍的校正处理而进行显示。

6.根据权利要求4或5所述的X射线透射检查方法,其特征在于,

在所述运算处理的步骤中,生成改变所述试样相对于所述X射线源的朝向从而使所述X射线从不同方向透射了所述试样而得到的多个所述试样的截面像。

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