[发明专利]一种显影液过滤器的清洗药剂及清洗方法有效

专利信息
申请号: 201910684060.2 申请日: 2019-07-26
公开(公告)号: CN110314555B 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 肖应东;肖勇辉;徐蓉珊;赖辉 申请(专利权)人: 东莞东元环境科技股份有限公司
主分类号: B01D65/06 分类号: B01D65/06
代理公司: 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 代理人: 李锦华
地址: 523000 广东省东莞市松山湖高*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 显影液 过滤器 清洗 药剂 方法
【权利要求书】:

1.一种显影液过滤器的清洗方法,其特征在于:采用显影液过滤器的清洗药剂进行清洗:

所述清洗药剂包括清洗剂A和清洗剂B;

所述清洗剂A包括如下组分:H2SO4 1-3wt%、H2O21-3wt‰,余量为水;

所述清洗剂B包括如下组分:NaClO 3-5wt%、十二烷基苯磺酸钠1-3wt‰、乙二胺四乙酸二钠0.5-1.5wt‰,余量为水;

显影液过滤器的清洗方法包括如下步骤:

(1)一次水洗:用清水对过滤器组件进行冲洗,然后将水排空;

(2)酸洗:用清洗剂A对过滤器组件进行正向冲洗,然后进行升温浸泡处理,最后进行反向冲洗;

(3)二次水洗:将步骤(2)中的清洗剂A排空,然后使用清水对过滤器组件进行冲洗,然后将水排空;

(4)碱洗:用清洗剂B对过滤器组件进行正向冲洗,然后进行升温浸泡处理,最后进行反向冲洗;

(5)三次水洗:将步骤(4)中的清洗剂B排空,然后使用清水对过滤器组件进行冲洗,然后将水排空。

2.根据权利要求1所述的一种显影液过滤器的清洗方法,其特征在于:所述清洗剂A包括如下组分:H2SO4 2wt%、H2O2 2wt‰,余量为水。

3.根据权利要求1所述的一种显影液过滤器的清洗方法,其特征在于:所述清洗剂B包括如下组分:NaClO 4wt%、十二烷基苯磺酸钠2wt‰、乙二胺四乙酸二钠1wt‰,余量为水。

4.根据权利要求1所述的一种显影液过滤器的清洗方法,其特征在于:所述过滤器组件为陶瓷膜过滤器及其管道,所述陶瓷膜过滤器的过滤精度为0.1-0.3μm。

5.根据权利要求1所述的一种显影液过滤器的清洗方法,其特征在于:所述步骤(2)中,正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.3-0.5MPa,冲洗时间均为20-40min。

6.根据权利要求1所述的一种显影液过滤器的清洗方法,其特征在于:所述步骤(4)中,正向冲洗和反向冲洗的水压均为0.3-0.5MPa,冲洗时间均为20-40min。

7.根据权利要求1所述的一种显影液过滤器的清洗方法,其特征在于:所述步骤(2)中,升温浸泡处理为:将清洗剂A升温至40-60℃,浸泡时间为3-5h。

8.根据权利要求1所述的一种显影液过滤器的清洗方法,其特征在于:所述步骤(4)中,升温浸泡处理为:将清洗剂B升温至40-60℃,浸泡时间为7-9h。

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