[发明专利]摆动闸阀

说明书

一种摆动闸阀，包括：阀体，所述阀体具有腔室，所述阀体顶部具有第一阀口，所述阀体底部具有第二阀口；遮蔽板组件，所述遮蔽板组件位于所述腔室内；摆动杆，所述摆动杆带动所述遮蔽板组件作摆动；驱动部，所述驱动部固设于所述阀体的外壁上，所述驱动部适于驱动所述摆动杆作摆动；导轨，所述导轨固设于所述腔室的内壁上；多个滚轮，所述滚轮连接所述遮蔽板组件，所述滚轮适于沿所述导轨移动。本发明有助于固定所述遮蔽板组件的摆动路线，避免所述遮蔽板组件由于老化脱离预定路线摆动。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种摆动闸阀。

背景技术

溅射镀膜属于物理气相沉积方法制备薄膜的工艺之一，具体是指利用高能粒子轰击靶材表面，使得靶材原子或分子获得足够的能量逸出，并沉积在基材或工件表面，从而形成薄膜。

若溅射镀膜在非真空环境中进行，高能粒子在轰击靶材表面前容易与环境中的气体原子或分子碰撞，导致高能粒子的速率下降，影响高能粒子轰击靶材表面，因此溅射镀膜需在真空环境中进行。

为使得溅射镀膜在真空环境中进行，溅射镀膜的工艺腔室通常连接闸阀，闸阀连接冷泵。通过打开闸阀的阀口，可对溅射镀膜的工艺腔室进行抽真空。因此闸阀可作为真空腔体连接的开关。

但是，现有闸阀的结构仍有待改进。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种摆动闸阀，有助于固定所述遮蔽板组件的摆动路线，避免所述遮蔽板组件由于老化脱离预定路线摆动。

为解决上述问题，本发明提供一种摆动闸阀，包括：阀体，所述阀体具有腔室，所述阀体顶部具有第一阀口，所述阀体底部具有第二阀口；遮蔽板组件，所述遮蔽板组件位于所述腔室内；摆动杆，所述摆动杆带动所述遮蔽板组件作摆动；驱动部，所述驱动部固设于所述阀体的外壁上，所述驱动部适于驱动所述摆动杆作摆动；导轨，所述导轨固设于所述腔室的内壁上；多个滚轮，所述滚轮连接所述遮蔽板组件，所述滚轮适于沿所述导轨移动。

可选的，所述遮蔽板组件包括第一遮蔽板、第二遮蔽板及连接件，所述第一遮蔽板表面与所述第二遮蔽板表面相对，所述连接件位于所述第一遮蔽板与所述第二遮蔽板之间，所述连接件连接所述第一遮蔽板与所述第二遮蔽板。

可选的，所述摆动杆具有摆动端及固定端，所述摆动端连接所述连接件，所述驱动部连接所述固定端。

可选的，所述导轨包括相分立的第一子导轨及第二子导轨，所述第一子导轨与所述第二子导轨相对，所述遮蔽板组件在所述第一子导轨与所述第二子导轨之间作摆动。

可选的，所述导轨的两端设有凸起件。

可选的，设于所述第一子导轨两端的凸起件朝所述第二子导轨凸出，设于所述第二子导轨两端的凸起件朝所述第一子导轨凸出。

可选的，所述连接件包括第一杆体和第二杆体，所述第一杆体具有第一端部和第二端部，所述第一端部连接所述滚轮，所述第二端部连接所述摆动杆，所述第二杆体具有第三端部和第四端部，所述第三端部连接所述滚轮，所述第四端部连接所述摆动杆。

可选的，所述摆动闸阀还包括：固定件，所述固定件包括第一固定件和第二固定件，所述第一固定件设于所述第一端部，所述第一固定件固定连接所述第一杆体与所述第一遮蔽板，所述第二固定件设于所述第三端部，所述第二固定件固定连接所述第二杆体与所述第二遮蔽板。

可选的，所述第一杆体的数量为四个，四个所述第一杆体呈辐射状排布，相邻所述第一杆体的延伸方向相垂直。

可选的，所述第二杆体的数量为四个，四个所述第二杆体呈辐射状排布，相邻所述第二杆体的延伸方向相垂直，所述第二杆体与所述第一杆体一一对应。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：