[发明专利]一种非线性光学晶体材料及制备方法与应用

权利要求书

1.一种非线性光学晶体材料的制备方法，其特征是，采用低温水热合成法制备NBBF，在低温水热合成体系中添加表面活性剂，低温水热合成的反应时间与表面活性剂的浓度的比例不低于12:0.01，h：mol·L^-1。

2.如权利要求1所述的非线性光学晶体材料的制备方法，其特征是，步骤为：

将H₃BO₃、BeSO₄、NaF加入至表面活性剂溶液中，调节pH为11.5～12.5，密闭条件下，加热至200～220℃进行反应。

3.如权利要求1所述的非线性光学晶体材料的制备方法，其特征是，H₃BO₃、BeSO₄、NaF的摩尔比为1:2.0～2.3:2.0～2.5。

4.如权利要求1所述的非线性光学晶体材料的制备方法，其特征是，表面活性剂的浓度为0.02～0.06mol·L^-1，反应时间为1～3天。

5.如权利要求1所述的非线性光学晶体材料的制备方法，其特征是，反应后的物料去除上层清液，将沉淀洗涤干燥获得非线性光学晶体材料。

6.如权利要求5所述的非线性光学晶体材料的制备方法，其特征是，采用乙醇和水依次洗涤；

或，干燥的温度为80～90℃，干燥时间为22～26h。

7.如权利要求1所述的非线性光学晶体材料的制备方法，其特征是，所述表面活性剂为十二烷基硫酸钠、聚乙二醇或十二烷基三甲基溴化铵。

8.一种权利要求1～7任一所述的非线性光学晶体材料的制备方法获得的非线性光学晶体材料。

9.一种权利要求8所述的非线性光学晶体材料在电化学领域中的应用。

10.一种电极材料，其特征是，包括权利要求8所述的非线性光学晶体材料。