[发明专利]多光谱滤波器在审
申请号: | 201910689420.8 | 申请日: | 2019-07-29 |
公开(公告)号: | CN110780370A | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
发明(设计)人: | 乔治·J·欧肯法斯 | 申请(专利权)人: | 唯亚威通讯技术有限公司 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28 |
代理公司: | 11262 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张瑞;杨明钊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 反射镜 折射率 组层 光学滤波器 子组 间隔件 关联 滤波器 低折射率层 高折射率层 多光谱 衬底 光谱 申请 | ||
1.一种光学滤波器,包括:
衬底;
第一反射镜,其中所述第一反射镜包括一组层中的第一子组层;
第二反射镜,其中所述第二反射镜包括所述一组层中的第二子组层;以及
间隔件,其中所述间隔件包括所述一组层中的第三子组层,
其中所述一组层包括与第一折射率相关联的多个高折射率层和与第二折射率相关联的多个低折射率层,所述第二折射率小于所述第一折射率,
其中所述光学滤波器与从至少大约1200纳米(nm)到大约1900nm的光谱范围相关联。
2.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述第一子组层和所述第二子组层各自包括所述多个高折射率层中的至少一个和所述多个低折射率层中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述光学滤波器形成特定数量的通道,并且
其中所述特定数量的通道大于或等于以下项中的至少一项:
32个通道,
64个通道,或者
128个通道。
4.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述多个高折射率层包括以下项中的至少一个:
锗层,
硅锗层,
氢化硅层,
氢化锗层,或者
氢化硅锗层。
5.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述多个低折射率层包括以下项中的至少一个:
硅层,
二氧化硅(SiO2)层,
氧化铝(Al2O3)层,
二氧化钛(TiO2)层,
五氧化二铌(Nb2O5)层,
五氧化二钽(Ta2O5)层,或者
氟化镁(MgF2)层。
6.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述第一折射率大于3.0。
7.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述第二折射率小于2.5。
8.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述光谱范围从至少大约1000nm到大约2000nm。
9.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述光谱范围从至少大约1100nm到大约2000nm。
10.根据权利要求1所述的光学滤波器,其中,所述光学滤波器形成与多个光波长相关联的多个通道,并且
所述多个通道中的第一通道和所述多个通道中的第二通道与所述多个光波长中的公共光波长相关联。
11.一种二元多光谱滤波器,包括:
多个层,
其中,所述多个层包括与第一折射率相关联的一组高折射率层和与第二折射率相关联的一组低折射率层,所述第二折射率小于所述第一折射率,
其中,所述多个层形成多个通道以引导多个波长的光,
其中所述一组高折射率层包括氢化硅层、硅锗层、锗层、氢化硅锗层或氢化锗层中的至少一个。
12.根据权利要求11所述的二元多光谱滤波器,其中,所述二元多光谱滤波器与从大约1100纳米(nm)到大约2000nm的光谱范围相关联。
13.根据权利要求11所述的二元多光谱滤波器,其中,所述二元多光谱滤波器与包括近红外光谱范围和短波红外光谱范围的光谱范围相关联。
14.根据权利要求11所述的二元多光谱滤波器,其中,所述多个层夹有间隔件层,并且
其中所述间隔件层与所述第一折射率相关联。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于唯亚威通讯技术有限公司,未经唯亚威通讯技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910689420.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。