[发明专利]一种高精度光学引导局部成像方法在审
| 申请号： | 201910690154.0 | 申请日： | 2019-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN110365884A | 公开（公告）日： | 2019-10-22 |
| 发明（设计）人： | 徐红帅;徐康宁;王雅;韦孟锑 | 申请（专利权）人： | 威米深智（苏州）工业技术有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;H04N5/232 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 张丽 |
| 地址： | 215129 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 成像相机 成像 工件特征 定位工件 无效区域 光轴平移光路 成像镜头 光学引导 局部成像 高分辨率成像 图像分辨率 低分辨率 局部区域 图像处理 总像素量 拍摄 低像素 分辨率 局部区 像素量 屏蔽 去除 传输 保证 | ||
【权利要求书】：
1.一种高精度光学引导局部成像方法，其特征在于，包括成像相机、成像镜头、光轴平移光路组件用于拍摄定位工件；所述成像方法包括如下步骤：
（1）调整成像相机的像素量和分辨率，使成像相机采用低像素量/低分辨率拍摄所述定位工件，同时保证拍到所述定位工件所有的工件特征点；
（2）调整所述成像相机和所述成像镜头，提高所述定位工件的工件特征点的范围内的图像分辨率；
（3）调整所述光轴平移光路组件，得到成像局部区域及成像无效区域，屏蔽掉两个工件特征点之间的所述成像无效区域成像到所述成像相机中；
（4）将工件特征点的局部区成像到所述成像相机，使得工件特征点局部高分辨率成像；
（5）去除无效区域成像而降低总像素量，得到最终成像。
2.根据权利要求1所述的一种高精度光学引导局部成像方法，其特征在于：所述成像相机内包括有相机传感器。
3.根据权利要求1所述的一种高精度光学引导局部成像方法，其特征在于：所述光轴平移光路组件包括有平行反光镜或斜方棱镜。
4.根据权利要求1所述的一种高精度光学引导局部成像方法，其特征在于：所述步骤（3）中，调整所述光轴平移光路组件包括平移后光轴中心及平移前光轴中心。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于威米深智（苏州）工业技术有限公司，未经威米深智（苏州）工业技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910690154.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种摄像头
- 下一篇：摄像头组件及电子设备
