[发明专利]一种基于多探头波束合成技术的测量设备及方法

权利要求书

1.一种基于多探头波束合成技术的测量方法，应用于基于多探头波束合成技术的测量设备，所述测量设备包括电波暗室、控制台、环形支架、待测物转台、波束合成网络和至少两个实际探头，其特征在于，包括：

通过所述电波暗室吸收电磁波和隔绝外部干扰电磁场；

通过所述控制台控制所述波束合成网络的调整，控制所述待测物转台旋转；

通过所述待测物转台带动待测物体旋转；

通过所述波束合成网络为至少两个所述实际探头提供信号激励，生成至少一个等效探头；

通过控制所述实际探头间所述信号激励的激励幅度、激励相位，赋值和确定所述等效探头的方向性、增益、相位、波束宽度以及空间位置。

2.根据权利要求1所述的基于多探头波束合成技术的测量方法，其特征在于，所述波束合成网络设置有与所述实际探头数量相对的输出支路，每一所述输出支路对应给一个所述实际探头提供特定的信号幅度和相位激励。

3.根据权利要求2所述的基于多探头波束合成技术的测量方法，其特征在于，通过控制所述波束合成网络不同的所述输出支路特定的信号幅度和相位激励，可以调节所述等效探头的指向、增益、相位、波束宽度以及等效探头在所述环形支架上的位置。

4.根据权利要求所述的基于多探头波束合成技术的测量方法，其特征在于，不同的所述实际探头数量形成不同的等效探头数量及位置。

5.一种基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，包括电波暗室、环形支架、待测物转台、波束合成网络和至少两个实际探头，所述环形支架垂直设置在所述电波暗室，所述控制台分别与所述待测物转台、所述波束合成网络连接，所述波束合成网络与所述实际探头连接，所述待测物转台设置在所述环形支架的底部，所述待测物转台的顶部位于所述环形支架的中心，所述实际探头设置在所述环形支架上；

所述电波暗室，用于吸收电磁波和和隔绝外部干扰电磁场；

所述控制台，用于控制所述波束合成网络的调整，控制所述待测物转台旋转；

所述待测物转台，用于带动待测物体旋转；

所述波束合成网络为至少两个所述实际探头提供信号激励，生成至少一个等效探头；

通过控制所述实际探头间所述信号激励的激励幅度、激励相位，赋值和确定所述等效探头的方向性、增益、相位、波束宽度以及空间位置。

6.根据权利要求5所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述实际探头均匀或者不均匀设置在所述环形支架上。

7.根据权利要求6所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述电波暗室内壁为导体层，所述导体层用于隔绝外界电磁波，所述电波暗室内壁设置有吸波棉，通过所述吸波棉吸收电磁波。

8.根据权利要求7所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述吸波棉为三维立体空间结构，所述三维立体空间结构为圆柱体、球体或者六面图。

9.根据权利要求5所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述波束合成网络设置有与所述实际探头数量相对的输出支路，每一所述输出支路对应给一个所述实际探头提供特定的信号幅度和相位激励。

10.根据权利要求5所述的基于多探头波束合成技术的测量设备，其特征在于，所述的控制台包括硬件及控制软件。