[发明专利]一种低温辐射计用测试集成装置及测试方法有效
申请号: | 201910697814.8 | 申请日: | 2019-07-31 |
公开(公告)号: | CN110440911B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 庄新港;史学舜;刘红博;张鹏举;刘长明;王恒飞 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
主分类号: | G01J1/02 | 分类号: | G01J1/02 |
代理公司: | 青岛智地领创专利代理有限公司 37252 | 代理人: | 林琪超 |
地址: | 266555 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低温 辐射计 测试 集成 装置 方法 | ||
1.一种低温辐射计入射光路中杂散光测试方法,其特征在于,包括测试集成装置,所述测试集成装置包括主筒体,主筒体的上部设置有布儒斯特窗口透过率测试窗口和杂散光测试窗口,主筒体的下部设置有四象限探测器安装真空法兰,主筒体的内部设置有离轴抛物面反射镜;
主筒体的前端连接有前端真空法兰,主筒体的后端连接有后端真空法兰;
所述四象限探测器安装真空法兰的侧部设置有航空插头接口,四象限探测器安装真空法兰的底部设置有真空盲板,在真空盲板的内侧设置有四象限探测器安装座,四象限探测器安装座上安装有四象限探测器;
所述离轴抛物面反射镜位于四象限探测器安装真空法兰的上方,离轴抛物面反射镜通过反射镜安装座固定在主筒体的内壁上,离轴抛物面反射镜能在反射镜安装座上调整位置;离轴抛物面反射镜的离轴方向竖直向下;
利用低温辐射计用测试集成装置进行入射光束对准调试的方法,包括以下步骤:
步骤1:完成对入射光空间滤波和稳功率控制,打开低温辐射计各级冷屏罩,拆掉低温辐射计的黑体腔,调整入射光方向让入射光从黑体腔安装座中心穿过;
步骤2:重新装配好黑体腔及低温辐射计的各级冷屏,后端真空法兰通过真空挡板阀与低温辐射计的外层屏蔽罩通光孔安装在一起;
步骤3:观察入射光是否从离轴抛物面反射镜的中间通孔的中心通过,若不是,则反复调整离轴抛物面反射镜在反射镜安装座上的位置,直至入射光从离轴抛物面反射镜的中间通孔的中心通过;
步骤4:确保四象限探测器的中心位于离轴抛物面反射镜的反射光光斑焦点位置,将航空插头借助真空卡箍安装在航空插头接口上,读取四象限探测器信号;
步骤5:调节入射光方向和空间位置,观察四象限探测器四个象限的示数,直至四个象限的示数相同,认为完成光束对准;
在低温辐射计入射光束对准调试完成后,进行低温辐射计入射光路中杂散光测试的方法,包括以下步骤:
步骤a:在测试集成装置的一侧安装二维电动平移台,二维电动平移台上设置有光电探测器,光电探测器能在二维电动平移台上移动;
步骤b:光电探测器自布儒斯特窗口透过率测试窗口伸入,测试离轴抛物面反射镜前端的光功率P3,之后,光电探测器自杂散光测试窗口伸入,测试离轴抛物面反射镜后端的光功率P4,则P3-P4即为此时的杂散光光功率,杂散光修正因子S的值为P4/P3;同时记录并计算此时离轴抛物面反射镜反射到四象限探测器上的光功率之和,记为P0,并把该反射光视为监视光;
步骤c:利用真空盲板对布儒斯特窗口透过率测试窗口和杂散光测试窗口进行密封;
步骤d:由于低温辐射计整个测试过程需要进行多次光加热,且对入射光进行稳功率,则认为在整个测试过程中入射光功率是不变的,但杂散光功率可能会有微小变化,因此,测试过程中需实时记录监视光光功率,记为Pt,则Pt/P0即为杂散光的实时修正量,修正后的杂散光修正系数
2.根据权利要求1所述的一种低温辐射计入射光路中杂散光测试方法,其特征在于,所述布儒斯特窗口透过率测试窗口、杂散光测试窗口和四象限探测器安装真空法兰均与主筒体相通。
3.根据权利要求1所述的一种低温辐射计入射光路中杂散光测试方法,其特征在于,所述主筒体的下部还设置有用于与光学支撑杆螺纹连接的螺纹接口;所述后端真空法兰上连接有抽真空法兰。
4.一种低温辐射计布儒斯特窗口透过率测试方法,其特征在于,在权利要求1所述的低温辐射计入射光束对准调试方法完成后,包括以下步骤:
步骤1:在前端真空法兰上安装布儒斯特窗口;
步骤2:在测试集成装置的一侧安装二维电动平移台,二维电动平移台上设置有光电探测器,光电探测器能在二维电动平移台上移动;
步骤3:光电探测器自布儒斯特窗口透过率测试窗口伸入,调整布儒斯特窗口倾角和入射光偏振态,直至获得布儒斯特窗口的最佳透过率值;
步骤4:光电探测器先测试布儒斯特窗口前端的光功率值P1,之后,光电探测器自布儒斯特窗口透过率测试窗口伸入,测试布儒斯特窗口后端的光功率P2,则P2/P1即为布儒斯特窗口透过率修正因子T。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第四十一研究所,未经中国电子科技集团公司第四十一研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910697814.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。