[发明专利]基于多级串联电镀槽的电镀源高效制备装置及方法有效

专利信息
申请号: 201910698757.5 申请日: 2019-07-30
公开(公告)号: CN110424046B 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 范富有;梁珺成;张健;刘皓然 申请(专利权)人: 中国计量科学研究院
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00;C25D7/00;C25D5/00
代理公司: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 代理人: 何志欣
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 多级 串联 电镀 高效 制备 装置 方法
【权利要求书】:

1.基于多级串联电镀槽的电镀源高效制备装置,至少包括:

若干个电镀槽(1),均能够用于盛放电沉积液;

为每一个电镀槽(1)配置的阴极(2)和阳极(3),所述阴极(2)和所述阳极(3)同时置于所述电沉积液中,使得所述电沉积液能够在所述阴极(2)和所述阳极(3)通电的情况下在所述阴极(2)上形成电镀层;

其特征在于,

所述若干个电镀槽(1)按照彼此串联的方式连接,使得所述若干个电镀槽(1)能够在相同大小的电流下同步形成所述电沉积处理,其中:

所述电镀槽(1)配置为在电沉积处理时间大于第一设定时间的情况下,通过向所述电镀槽(1)中加入设定量的氨水的方式提高所述电镀层的粒子发射率;

所述电镀源高效制备装置还包括设置于所述电镀槽(1)中至少包括导流腔(13b)和本体(13a)的搅拌部(13),其中:所述本体(13a)上设置有至少一个导流通道,在阴极(2)和阳极(3)的连线与电镀槽(1)的中轴线彼此平行,并且所述搅拌部(13)绕所述中轴线自转的情况下,电沉积液能够绕所述中轴线自转以形成涡流;所述电沉积液能够经由所述导流通道进入所述导流腔(13b),并且所述导流腔(13b)中能够设置有第一排流口(15)和第二排流口(16),所述本体(13a)还设置第一进流口(17)和第二进流口(18),所述第一进流口(17)与所述第一排流口(15)连通,所述第二进流口(18)与所述第二排流口(16)连通,其中:

第一排流口(15)的直径大于第二排流口(16)的直径,使得电沉积液在所述导流腔(13b)中沿所述中轴线朝第一方向流动以对所述阴极(2)进行冲刷的过程中,冲击所述阴极中部的电沉积液的流量大于冲击所述阴极边缘部的电沉积液的流量;并且对所述阴极(2)进行冲刷后的电沉积液能够沿所述中轴线朝第二方向流动以形成环流;

第一进流口(17)和第二进流口(18)的延伸方向呈倾斜状态,倾斜状态是指第一进流口(17)和第二进流口(18)各自的延伸方向与本体(13a)的径向方向彼此之间具有不等于90°的夹角α,进而使得本体(13a)在转动时,电沉积液能够更容易地进入第一进流口(17)和第二进流口(18),导流通道由第一进流口与第一排流口构成的通道限定,或者由第二进流口与第二排流口构成的通道限定;

搅拌部(13)还配置为在设定时间内交替旋转的工作模式。

2.根据权利要求1所述的电镀源高效制备装置,其特征在于,所述电镀源高效制备装置还包括均配置所述电镀槽(1)、所述阴极(2)和所述阳极(3)并且与电源(12)构成串联回路的第一制备装置(4)、第二制备装置(5)和第三制备装置(6),其中:

通过在所述第一制备装置(4)、所述第二制备装置(5)和所述第三制备装置(6)各自的电镀槽(1)中均加入等体积等活度的电沉积液以形成所述电沉积处理;

所述电沉积液至少由浓度范围为6000贝克/克~8000贝克/克的放射源溶液和质量分数范围为13%~16%的Na2SO4溶液按照两者的体积比范围为0.02~0.04的方式混合而成,其中,Na2SO4溶液的pH的范围为3~4。

3.根据权利要求2所述的电镀源高效制备装置,其特征在于,所述电镀源高效制备装置还包括能够对阴极中部和阴极边缘部施加不同大小的磁场的磁场施加部(19),所述磁场施加部(19)至少包括第一磁体(19b)和第二磁体(19c),其中:

第一磁体(19b)产生的磁场强度大于第二磁体(19c)产生的磁场强度,使得阴极中部的沉积速率能够按照阴极中部受到的磁场力大于阴极边缘部受到的磁场力的方式大于阴极边缘部的沉积速率。

4.根据权利要求3所述的电镀源高效制备装置,其特征在于,所述第一磁体(19b)至少包括第一螺线管(22),所述第二磁体(19c)至少包括第二螺线管(23),其中:

第一螺线管(22)的长度大于第二螺线管(23)长度,使得第一螺线管(22)的匝数大于第二螺线管(23);

第一螺线管(22)与第二螺线管(23)之间的长度差能够按照所述第一螺线管(22)或所述第二螺线管(23)受外力作用而改变其长度的方式增大或减小,使得电沉积液中的磁场强度和温度场能够进行同步调整。

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