[发明专利]一种串级批量制备电镀源的方法

说明书

本发明涉及一种串级批量制备电镀源的方法,至少包括如下步骤：制备电沉积液并将置于电镀槽(1)中，所述电沉积液至少由放射源溶液和Na₂SO₄溶液按照设定的比例进行混合的方式制成；配置电镀参数，所述电镀参数至少包括电流、电压以及阴极(2)与阳极(3)之间的距离；电镀槽(1)通电以使得所述电沉积液在所述阴极(2)与阳极(3)之间形成电沉积处理；所述方法还包括如下步骤：在电沉积处理时间大于第一设定时间的情况下，向电镀槽(1)中加入设定量的氨水，并且在电沉积处理时间大于第二设定时间的情况下，将电镀槽(1)中的电镀余液排出。

技术领域

本发明属于放射源制备技术领域，尤其涉及一种串级批量制备电镀源的方法。

背景技术

为了对α、β表面污染仪进行校准，需要制备放射性标准源。传统的制备放射源的方法有分子电镀法、浆化铺样法和电沉积法。其中分子电镀法相对于其他电镀方法有较多优越性，但由于一般电镀法采用的阳极主要为单根铂金丝、盘香状铂金丝或铂金丝网，用于放射源制备时很难保证其平整度(即保证阴极与阳极间距离不变)，铂金丝或铂金网的长度高达30cm～40cm，要保证其整体的平整度很难，而且要防止变形需要加粗或加厚，成本较高且调平难度大，同时无法保证放射源的分辨率。

例如，公开号为CN105821467B的专利文献公开了一种用于制备高分辨率α源的电沉积装置，包括电源、电镀槽、底称、磁铁及铂电极；所述电镀槽为内外两层结构，内层上端和底部均设置有开口；电镀槽的内层用于盛装电沉积镀液，外层的对角处设置有冷却循环水进口和冷却循环水出口；所述内层上端的开口处设置有上密封圈及上方的上密封盖，内层底部的开口处分别设置有下密封圈及下方的下密封盖；所述底称作为阴极，紧贴于下密封圈中间的孔道下方；所述铂电极从电镀槽内层上端的径向中心位置处伸入至距离电镀槽底部0.5cm～1cm的位置处。该装置制备的α源具有电沉积效率高、镀层致密、均匀性好且沉积厚度小的有益效果。还例如，公开号为CN107164792B的专利文献公开了一种制备高分辨率α放射源的磁流体动力学电沉积方法，该方法在沉积槽外部放置永磁体，对沉积体系施加磁场，沉积过程中在磁场和电场共存的情况下，产生一个与磁场和电场方向均垂直的洛伦兹力，该力的存在能加快沉积液内部的液相传质，减小阴极扩散层的厚度，在加快沉积速率提高沉积效率的同时，可以显著提高所制源的分辨率。但是上述电镀装置或电镀方法均不能有效提高电镀源的粒子发射率。

此外，一方面由于对本领域技术人员的理解存在差异；另一方面由于发明人做出本发明时研究了大量文献和专利，但篇幅所限并未详细罗列所有的细节与内容，然而这绝非本发明不具备这些现有技术的特征，相反本发明已经具备现有技术的所有特征，而且申请人保留在背景技术中增加相关现有技术之权利。

发明内容

如本文所用的词语“模块”描述任一种硬件、软件或软硬件组合，其能够执行与“模块”相关联的功能。

针对现有技术之不足，本发明提供一种串级批量制备电镀源的方法,至少包括如下步骤：制备电沉积液并将置于电镀槽中，所述电沉积液至少由放射源溶液和Na₂SO₄溶液按照设定的比例进行混合的方式制成；配置电镀参数，所述电镀参数至少包括电流、电压以及阴极与阳极之间的距离；电镀槽通电以使得所述电沉积液在所述阴极与阳极之间形成电沉积处理；所述方法还包括如下步骤：在电沉积处理时间大于第一设定时间的情况下，向电镀槽中加入设定量的氨水，并且在电沉积处理时间大于第二设定时间的情况下，将电镀槽中的电镀余液排出。本发明通过将氨水的加入时间由电镀开始前更改为电镀开始后的第一设定时间内，能够将阴极的2π粒子发射率提升30％。