[发明专利]一种单层膜结构触摸屏制作方法在审
| 申请号： | 201910699193.7 | 申请日： | 2019-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN110515486A | 公开（公告）日： | 2019-11-29 |
| 发明（设计）人： | 胡川 | 申请（专利权）人： | 芜湖伦丰电子触摸屏产业技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司： | 34138 芜湖思诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郑直<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 导电桥 触摸功能 绝缘光学 导电块 滚涂 弯折 触摸屏制作 单层导电膜 单层膜结构 导电材料 导电能力 后续工序 蚀刻图案 透明 短路 单层膜 纳米银 石墨烯 搭接 导通 减薄 两层 膜材 断裂 制作 | ||
1.一种单层膜结构触摸屏制作方法，其特征在于，具体步骤如下：
(1)对整张导电膜材采用湿法或干法的蚀刻方式，将两层触摸图案制作在一层图案上，蚀刻出所需的导电触摸图案；
(2)先采用滚涂的方式涂布绝缘透明光学胶OC1至导电触摸图案上，再采用滚涂的方式将纳米级的柔性导电材料涂布至光学胶OC1上，在相邻导电块间搭桥形成导电桥，所述导电桥将相邻2个悬浮的导电块导通，形成竖方向的通道；
(3)涂好导电桥后，再采用滚涂的方式涂布绝缘透明光学胶OC2；
(4)此时在同一层X方向和Y方向都已经导通，后续再经过边缘银浆引线接到IC处理器实现触摸功能，即制得单层膜结构触摸屏。
2.根据权利要求1中所述的一种单层膜结构触摸屏制作方法，其特征在于：所述干法的蚀刻方式为光斑直径0.035mm的激光镭射蚀刻。
3.根据权利要求2中所述的一种单层膜结构触摸屏制作方法，其特征在于：所述激光镭射蚀刻采用多根平行激光走线的方式进行导电块间隙的蚀刻。
4.根据权利要求2中所述的一种单层膜结构触摸屏制作方法，其特征在于：所述激光镭射蚀刻采用激光Dummy小方块的形式进行导电块间隙的蚀刻。
5.根据权利要求1中所述的一种单层膜结构触摸屏制作方法，其特征在于：所述导电桥两端的搭接长度超出导电块的间隙。
6.根据权利要求1中所述的一种单层膜结构触摸屏制作方法，其特征在于：所述柔性导电材料为纳米银或石墨烯，所述导电膜材为纳米银膜材。
7.根据权利要求6中所述的一种单层膜结构触摸屏制作方法，其特征在于：所述OC1和OC2的材质同纳米银膜材的保护层OC。
8.一种单层膜结构触摸屏，其特征在于，由权利要求1～7中任一项所述单层膜结构触摸屏制作方法制备获得。
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