[发明专利]用于处理基板的竖炉和用于其中的衬管

权利要求书

1.一种用于处理多个基板的竖炉，其包括：

外反应管；以及

衬管，所述衬管构造和布置成在所述外反应管的内部中延伸并且为大致圆柱形并且由顶端和在下端处的下部衬管开口界定并且限定内部空间以用于容纳具有基板的基板船；

气体通道，所述气体通道限定在所述衬管的外壁和所述反应管的内壁之间；

所述衬管设置有在一侧上并且从所述内部空间延伸到所述气体通道的至少一个排气孔；其中所述衬管的外壁和所述反应管的内壁中的至少一个设置有至少一个流动偏转器，所述至少一个流动偏转器从相应的壁径向突出到所述气体通道中。

2.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述流动偏转器至少部分地环绕所述衬管，使得在中心轴线的方向上通过所述气体通道的气流由所述流动偏转器阻挡至少一次。

3.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述流动偏转器从相应的壁径向突出所述气体通道的局部宽度的至少75％的距离。

4.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述流动偏转器在相应的壁上大致切向地延伸。

5.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述流动偏转器包括孔流动偏转器，所述孔流动偏转器布置在距所述衬管中的所述排气孔的10mm内。

6.根据权利要求5所述的竖炉，其中所述孔流动偏转器相对于所述衬管中的所述排气孔朝向下侧布置。

7.根据权利要求5所述的竖炉，其中所述孔流动偏转器设置有在顶部的方向上平行于所述反应管的中心轴线定向的直立脊。

8.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述排气孔为狭缝形状，并且所述狭缝的短侧在平行于所述反应管的中心轴线的方向上定向。

9.根据权利要求1所述的竖炉，其中竖直阵列中的多个排气孔设置在所述衬管中。

10.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述竖炉在所述衬管的内部空间中设置有平行于中心轴线延伸的喷射器以在所述内部空间中提供工艺气体。

11.根据权利要求10所述的竖炉，其中所述衬管设置有在所述气体通道中平行于所述中心轴线延伸的凸起以容纳所述内部空间中的所述喷射器。

12.根据权利要求10所述的竖炉，其中所述喷射器相对于所述中心轴线与所述开口相对设置。

13.根据权利要求1所述的竖炉，其中多个流动偏转器在所述气体通道中产生曲折的流动路径并且所述流动偏转器包括挡板。

14.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述衬管在所述衬管的顶端处设置有敞开锥形顶端。

15.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述炉设置有真空泵，所述真空泵构造和布置成经由所述衬管中的所述气排孔和所述气体通道从所述内部空间去除气体。

16.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述竖炉在所述衬管的内部空间中设置有喷射器，所述喷射器平行于所述中心轴线延伸并且连接到工艺气体源。

17.根据权利要求1所述的竖炉，其中所述工艺气体源包括构造和布置成蒸发正硅酸乙脂(TEOS)的前体气体蒸发器。

18.一种衬管，其构造成在竖炉的外反应管的内部中延伸以用于处理多个基板，所述衬管为大致圆柱形，具有中心轴线，并且由顶端和在下端处的下部衬管开口界定并且限定所述衬管内的内部空间以用于容纳具有基板的基板船；所述衬管设置有在一侧上并且从所述内部空间延伸到所述衬管的外侧的至少一个排气孔；所述衬管设置有从所述衬管的外壁径向突出的至少一个流动偏转器。