[发明专利]一种采用激光自倍频晶体的紫外激光装置

权利要求书

1.一种采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，包括泵浦源、整形系统、激光自倍频晶体、四倍频晶体和谐振组件；

所述泵浦源用于产生连续泵浦光；

所述整形系统用于对所述连续泵浦光进行整形，并由整形后的连续泵浦光抽运所述激光自倍频晶体产生自倍频激光；

所述四倍频晶体用于对所述自倍频激光进行再次倍频，产生四倍频紫外激光；

所述谐振组件用于构成谐振腔，并使所述激光自倍频晶体和四倍频晶体位于所述谐振腔内；所述谐振腔用于形成激光振荡，并选择性输出激光。

2.根据权利要求1所述的采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，所述激光自倍频晶体按照倍频相位匹配方向切割成柱状或板条状；所述激光自倍频晶体具有两个通光端面，两个所述通光端面为平面、球面或非球面。

3.根据权利要求1所述的采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，所述谐振组件包括：第一介质膜和第二介质膜；

所述第一介质膜用于透过所述连续泵浦光，并用于反射基频激光和自倍频激光；

所述第二介质膜用于输出所述四倍频紫外激光，并用于反射基频激光和自倍频激光。

4.根据权利要求3所述的采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，还包括：全反腔镜和输出腔镜，所述全反腔镜位于所述激光自倍频晶体之前，所述输出腔镜位于所述四倍频晶体之后；所述第一介质膜镀制于所述全反腔镜上，所述第二介质膜镀制于所述输出腔镜上。

5.根据权利要求3所述的采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，所述第一介质膜镀制于所述激光自倍频晶体的前通光端面上；所述第二介质膜镀制于所述四倍频晶体的后通光端面上。

6.根据权利要求3所述的采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，所述激光自倍频晶体和所述四倍频晶体按照相位匹配方向键合在一起后，构成键合晶体；相应地，所述键合晶体用于吸收所述整形后的连续泵浦光，产生所述四倍频紫外激光。

7.根据权利要求6所述的采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，所述第一介质膜镀制于所述键合晶体的前通光端面上；所述第二介质膜镀制于所述键合晶体的后通光端面上。

8.根据权利要求1所述的采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，所述整形系统包括柱面透镜，以及球面透镜和/或非球面透镜；所述柱面透镜用于对所述连续泵浦光在快轴方向进行整形；所述球面透镜和/或非球面透镜，用于对经过的所述连续泵浦光进行准直和聚焦；所述透镜表面均镀有用于透过所述连续泵浦光的介质膜。

9.根据权利要求1所述的采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，所述激光自倍频晶体为Nd:YAl₃(BO₃)₄、Nd:GdCa₄O(BO₃)₃、Nd:YCa₄O(BO₃)₃、Nd:La₂CaB₁₀O₁₉、Cr:Nd:GdCa₄O(BO₃)₃、Yb:Gd_xY_1-xAl₃(BO₃)₄、Yb:YAl₃(BO₃)₄、Yb:GdCa₄O(BO₃)₃或Yb:YCa₄O(BO₃)₃。

10.根据权利要求1所述的采用激光自倍频晶体的紫外激光装置，其特征在于，所述四倍频晶体为β-BaB₂O₄、CsB₃O₅、CsLiB₆O₁₀、KH₂PO₄、K₂Al₂B₂O₇或KBe₂BO₃F₂，所述四倍频晶体为I类或者II类相位匹配。