[发明专利]产生集成电路元件的布局图的方法在审
| 申请号： | 201910700808.3 | 申请日： | 2019-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN110852032A | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | 黄天建 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F115/06 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 产生 集成电路 元件 布局 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种产生集成电路元件的布局图的方法，其特征在于，该方法包含：
指派一泄漏约束给一集成电路元件的一第一电路图网络；
根据一虚设栅极区域，决定该泄漏约束的违规，其中该集成电路布局图包含在该集成电路元件的该第一电路图网络的一第一部件与一第二电路图网络的一第二部件之间的该虚设栅极区域；
修改该集成电路布局图，用以回应该泄漏约束的违规；以及
根据修改后的该集成电路布局图，产生一布局文件。
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