[发明专利]亚波长介质柱阵列结构的超材料双功能太赫兹波片有效
申请号: | 201910702102.0 | 申请日: | 2019-07-31 |
公开(公告)号: | CN110456426B | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 栗岩锋;訾剑臣;胡明列 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | G02B1/00 | 分类号: | G02B1/00;G02B5/30 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人: | 苏宇欢 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 波长 介质 阵列 结构 材料 功能 赫兹 | ||
1.一种亚波长介质柱阵列结构的超材料双功能太赫兹波片,其特征是,由纯硅介质基底(1)与介质柱阵列(2)构成,在直径1~12英寸、厚度100~2000μm高阻硅片上按照超材料结构布图设计、采用光刻技术一次成型制作的介质柱阵列(2)位于长方体纯硅介质基底(1)正上方,介质柱阵列(2)高度h为20~500μm,纯硅介质基底(1)长度为1~215mm、宽度为1~215mm、纯硅介质基底(1)高度H为上述高阻硅片采用光刻技术一次成型制作介质柱阵列(2)后的剩余厚度,沿水平轴向X与垂直轴向Y双方向,介质柱阵列(2)由介质柱阵列最小结构周期单元(2-1)周期性排布构成,介质柱阵列最小结构周期单元(2-1)包括介质柱阵列最小结构周期单元第一介质柱(2-1-1)与介质柱阵列最小结构周期单元第二介质柱(2-1-2),介质柱阵列最小结构周期单元(2-1)沿水平轴向X的周期PX为15~200μm、沿垂直轴向Y的周期PY为30~400μm,介质柱阵列最小结构周期单元第一介质柱(2-1-1)长度a1为8.1~118.0μm、介质柱阵列最小结构周期单元第一介质柱(2-1-1)宽度b1为5.3~69.0μm、介质柱阵列最小结构周期单元第一介质柱(2-1-1)长度a1与介质柱阵列最小结构周期单元第一介质柱(2-1-1)高度h1所在平面与水平轴向X间夹角θ1为10~80°,介质柱阵列最小结构周期单元第二介质柱(2-1-2)长度a2为6.9~92.0μm、介质柱阵列最小结构周期单元第二介质柱(2-1-2)宽度b2为4.8~69.0μm、介质柱阵列最小结构周期单元第二介质柱(2-1-2)长度a2与介质柱阵列最小结构周期单元第二介质柱(2-1-2)高度h2所在平面与水平轴向X间夹角θ2为10~80°,介质柱阵列最小结构周期单元第一介质柱(2-1-1)高度h1、介质柱阵列最小结构周期单元第二介质柱(2-1-2)高度h2与介质柱阵列(2)高度h等同,介质柱阵列最小结构周期单元第一介质柱(2-1-1)中心与介质柱阵列最小结构周期单元第二介质柱(2-1-2)中心距离D同PX相等。
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