[发明专利]一种石墨烯/六硼化镧复合薄膜、制备方法及应用有效
申请号: | 201910702525.2 | 申请日: | 2019-07-31 |
公开(公告)号: | CN110408908B | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 张琳;慈立杰;赵国庆;徐宙;王新秀 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/455;C23C16/56;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/58;H01B5/14;H01B13/00 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 张晓鹏 |
地址: | 250061 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 六硼化镧 复合 薄膜 制备 方法 应用 | ||
1.一种石墨烯/六硼化镧复合薄膜,其特征在于,所述复合薄膜采用硅或石英玻璃为基底,基底表面具有石墨烯/六硼化镧复合薄膜;
所述石墨烯/六硼化镧复合薄膜的制备方法为:通过气相沉积法在铜衬底上沉积得到石墨烯,将石墨烯转移到硅或石英玻璃基底上,通过磁控溅射在基底上获得GN/LaB6复合薄膜;
所述气相沉积具体步骤如下:将管式炉内抽真空处理,通入氢气和氩气,升温至1000~1200℃后保温一段时间,通入甲烷、关闭氩气,待石墨烯生长完成后,随炉冷却至室温;所述氢气和氩气的流量比为H2:Ar=10~30:900~1100;所述升温采取阶段性升温方式;通入甲烷时间为10~20min;所述甲烷和氢气的流量比为4:20;
所述磁控溅射的功率为42W,时间为4min,所述磁控溅射完成后还包括热处理步骤,所述热处理为600℃下保温1h。
2.如权利要求1所述石墨烯/六硼化镧复合薄膜,其特征在于,随炉冷却至室温后,继续通一段时间氩气,使炉内压强接近大气压。
3.如权利要求1所述石墨烯/六硼化镧复合薄膜,其特征在于,所述石墨烯转移采用PMMA辅助法。
4.如权利要求3所述石墨烯/六硼化镧复合薄膜,其特征在于,采用PMMA的氯代苯溶液将铜衬底上的石墨烯转移至基底上。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的