[发明专利]一种激光直接成像曝光机及其成像方法在审
申请号: | 201910703850.0 | 申请日: | 2019-07-31 |
公开(公告)号: | CN110412836A | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 梅力;胡朗 | 申请(专利权)人: | 江苏盟星智能科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 226300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 底座 成像平台 支撑平台 曝光机构 成像 激光直接成像 升降气缸 曝光机 基板传输机构 气缸控制器 表面安装 直接成像 曝光 对基板 上端面 支撑腿 基板 自动化 | ||
本发明公开了一种激光直接成像曝光机及其成像方法,包括曝光机构、成像平台、支撑平台和底座,底座底部固定安装有支撑腿,支撑平台设置在底座正上方,支撑平台和底座之间安装有多组升降气缸,底座上安装有与升降气缸连接的气缸控制器,支撑平台上端面安装有成像平台,成像平台表面安装有基板传输机构,曝光机构设置在成像平台正上方,曝光机构对下方的基板进行直接成像曝光,本发明结构设计新颖,操作方便,能够实现对基板的快速曝光,自动化程度高,稳定性好,提高了成像质量。
技术领域
本发明涉及成像曝光技术领域,具体为一种激光直接成像曝光机及其成像方法。
背景技术
曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线,将胶片或其他透体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备;广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域。
现有的激光成像曝光机稳定性差,导致成像精度低,成像质量差,因此,有必要进行改进。
发明内容
本发明的目的在于提供一种激光直接成像曝光机及其成像方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种激光直接成像曝光机,包括曝光机构、成像平台、支撑平台和底座,所述底座底部固定安装有支撑腿,所述支撑平台设置在底座正上方,所述支撑平台和底座之间安装有多组升降气缸,所述底座上安装有与升降气缸连接的气缸控制器,所述支撑平台上端面安装有成像平台,所述成像平台表面安装有基板传输机构,所述曝光机构设置在成像平台正上方,所述曝光机构对下方的基板进行直接成像曝光。
优选的,所述基板传输机构包括安装支架和输送辊,所述安装支架安装在成像平台两侧,所述输送辊安装在安装支架之间,所述输送辊上输送待曝光基板,所述安装支架一侧设有与输送辊连接的驱动装置。
优选的,所述曝光机构包括曝光单元、激光器和光源,所述曝光单元包括微反射镜阵列、物镜和分光镜,用于将激光器发出的光线通过分光镜、微反射镜阵列和物镜投影至下方基板的表面。
优选的,所述底座包括底部支承座、阻尼橡胶层、弹簧吸震层、顶部支承座、U 型加固件,所述底部支承座和顶部支承座设有若干相对应的螺纹孔,所述U 型加固件的两臂设有供螺栓穿过的通孔,所述底部支承座、阻尼橡胶层、弹簧吸震层和顶部支承座通过U 型加固件固定安装成一体。
优选的,其成像方法包括以下步骤:
A、将待曝光的基板放置在基板传输机构上,输送辊将基板传输至曝光击鼓正下方;
B、之后控制气缸控制器,气缸控制器控制成像平台上下移动,使基板与曝光机构距离处于合适位置;
C、之后曝光机构对基板进行图形对准、离焦补偿和扫描曝光,直至基板成像曝光完成。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
(1)本发明结构设计新颖,操作方便,能够实现对基板的快速曝光,自动化程度高,稳定性好,提高了成像质量。
(2)本发明采用的曝光机构曝光精度高,能够进一步提高了基板的成像质量。
(3)本发明采用的底座稳定性好,减震效果好,能够确保成像平台的稳定性,进一步提高了成像质量。
附图说明
图1为本发明结构示意图;
图2为本发明基板输送机构俯视图;
图3为本发明曝光机构示意图;
图4为本发明底座结构示意图。
具体实施方式
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