[发明专利]一种高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201910703934.4 | 申请日： | 2019-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN110408070B | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 邓雪然;雷向阳;杨伟;惠浩浩;马红菊;王天宇;张清华;张剑锋;张帅;高锐 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | C08G77/06 | 分类号： | C08G77/06 |
| 代理公司： | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人： | 郭艳艳 |
| 地址： | 621900*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 阈值 耐刮擦高 透射率 基频 激光 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）将甲基三甲氧基硅烷、水和乙醇以摩尔比为1~2:2~4:10~12的比例混合，于100~150℃反应15~24h，得溶胶A；
（2）将硅氧烷、氨水和乙醇以摩尔比为0.8~1.2:2~3:8~12的比例混合，于80~120℃反应20~30h后，冷却至室温，并陈化3~5天，得溶胶B；所述硅氧烷为原硅酸四乙酯、正硅酸四甲酯或甲基三乙氧基硅烷；
（3）向溶胶A中加入为其质量百分比10~30%的溶胶B，混合均匀后，以1~2mm/min的速度提拉涂膜，得待固化薄膜；
（4）于300~500℃烘烤步骤（3）制得的待固化薄膜20~30h即可。
2.根据权利要求1所述的高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述甲基三甲氧基硅烷、水和乙醇的摩尔比为1.5:3:11。
3.根据权利要求1所述的高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述反应温度为110℃，反应时间为24h。
4.根据权利要求1所述的高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（2）中所述硅氧烷、氨水和乙醇的摩尔比为1:2.5:10。
5.根据权利要求1所述的高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（2）中所述反应温度为100℃，反应时间为24h，陈化时间为4天。
6.根据权利要求1所述的高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述溶胶B的加入量为溶胶A质量百分比的20%。
7.根据权利要求1所述的高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述提拉速度为1.78mm/min。
8.根据权利要求1所述的高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜的制备方法，其特征在于，步骤（4）中所述烘烤温度为400℃，烘烤时间为24h。
9.权利要求1~8任一项所述制备方法制备得到的高阈值耐刮擦高透射率的基频激光薄膜。
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