[发明专利]硬化性组合物、显示元件及硬化膜的形成方法

说明书

本发明的目的在于提供一种在提高保存稳定性及放射线感度的同时，即便为通过200℃以下的硬化煅烧工艺而获得的膜也可形成硬度高、耐溶剂性优异的硬化膜的硬化性组合物、显示元件及硬化膜的形成方法。用以解决所述课题而成的发明为一种硬化性组合物，其含有(A)具有聚合性基的化合物、(B)感光剂、(C)热活性型延迟荧光化合物。

技术领域

本发明涉及一种硬化性组合物、显示元件及硬化膜的形成方法。

背景技术

在液晶显示元件、有机电致发光元件(有机EL(electroluminescence)元件)、电子纸元件等显示元件中，设置有用于防止以触摸屏为代表的电子零件的劣化或损伤的保护膜、用于保持配置成层状的配线间的绝缘性的层间绝缘膜、用于提高开口率的平坦化膜等硬化膜。在此种硬化膜的形成时使用感放射线性的硬化性组合物，例如在基板上形成硬化性组合物的涂膜，介隔具有规定图案的光掩模进行曝光，利用显影液进行显影并去除不需要的部分，然后进行加热(后烘烤)，由此获得硬化膜。

对所述硬化性组合物要求即使长期保存粘度也不会变得过高(保存稳定性)、以及放射线感度良好。另外，对由所述硬化性组合物所获得的硬化膜要求硬度高、以及对硬化膜形成的后续工序中使用的溶剂的耐受性(耐溶剂性)优异。

进而，关于此种硬化膜形成，通常根据200℃以上的硬化煅烧工艺，就减少环境负荷、防止针对塑料基板的应对或耐热性不足的染料或有机发光体的热劣化的观点而言，研究200℃以下的硬化煅烧工艺(日本专利特开2013-237750号公报)。

但是，关于所述公报中记载的硬化性组合物，难以在提高保存稳定性及放射线感度的同时，在低温煅烧工艺中也形成硬度高、耐溶剂性优异的硬化膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1日本专利特开2017-126068号公报

专利文献2日本专利特开2011-257537号公报

发明内容

发明所要解决的问题

本发明是基于所述情况而成者，其目的在于提供一种在提高保存稳定性及放射线感度的同时，即便为通过200℃以下的硬化煅烧工艺而获得的膜也可形成硬度高、耐溶剂性优异的硬化膜的硬化性组合物，由所述硬化性组合物所获得的硬化膜，使用所述硬化膜的显示元件，以及所述硬化膜的形成方法。

解决问题的技术手段

本发明人等人为了解决所述课题而进行了努力研究。其结果，发现利用具有以下构成的硬化性组合物可解决所述课题，从而完成了本发明。

发明的效果

用以解决所述课题而成的发明如下所述：

(1)一种含有[A]具有聚合性基的化合物、[B]感光剂、[C]热活性型延迟荧光化合物的硬化性组合物。

(2)一种所述(C)热活性型延迟荧光化合物为下述式(1)或式(2)所示的化合物的硬化性组合物。

[化1]

式(1)、式(2)中，R¹至R⁷中的至少一个表示氢原子、碳数1至12的烷基、苯基、甲苯基、萘基、氰基、式(X)所表示的基。

式(X)中，R²¹至R²⁸各自独立地表示氢原子或取代基。其中，满足＜A＞或＜B＞中的至少一者。

＜A＞R²⁵与R²⁶一起形成单键。