[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，具有：

处理室，在该处理室中利用处理液来对基板进行处理；

喷嘴，其在前端部具有所述处理液的喷出口；

喷嘴槽，在该喷嘴槽的内部形成有收容室，该收容室用于在所述处理液向所述基板的供给中断的待机时收容所述喷嘴的所述前端部；

循环线路，其用于使从所述喷嘴喷出至所述喷嘴槽的所述处理液返回所述喷嘴；以及

第一限制部，在使从所述喷嘴喷出至所述喷嘴槽的所述处理液向所述喷嘴循环时，该第一限制部限制所述喷嘴槽的外部与存在于所述喷嘴槽的内部的所述处理液之间的气体的流动。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一限制部具有置换部，该置换部用于对形成于所述喷嘴槽与被收容在所述喷嘴槽的所述收容室中的所述喷嘴之间的间隙的气氛进行置换。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第一限制部具有密闭部，所述密闭部将形成于所述喷嘴槽与被收容在所述喷嘴槽的所述收容室中的所述喷嘴之间的间隙封堵。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述密闭部具有膨胀密封件，通过向该膨胀密封件的内部供给流体，该膨胀密封件膨胀而将所述间隙封堵。

5.根据权利要求3或4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述密闭部具有弹性密封件，所述弹性密封件被所述喷嘴槽和所述喷嘴压缩而将所述间隙封堵。

6.根据权利要求3或4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述密闭部具有密封件形成部，所述密封件形成部用于形成将所述间隙封堵的液体的密封件。

7.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，还具有：

外槽，其配置在所述喷嘴槽的外部，在所述外槽的内部形成有将所述喷嘴槽的用于使所述喷嘴插入和拔出的出入口包围的中间室；以及

第二限制部，其限制所述外槽的外部与所述喷嘴槽的内部之间的气体的流动。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第二限制部具有可动盖，该可动盖以能够使所述外槽的用于使所述喷嘴插入和拔出的出入口敞开的方式封闭该出入口。

9.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第二限制部具有吸引喷嘴，所述吸引喷嘴用于将气体从所述中间室排出至所述处理室的外部。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第二限制部还具有吹扫喷嘴，所述吹扫喷嘴用于将吹扫气体从所述处理室的外部供给至所述中间室。

11.一种基板处理方法，包括以下工序：

在处理室中，从喷嘴的前端部的喷出口向基板供给处理液，由此对所述基板进行处理；

在所述处理液向所述基板的供给中断的待机时，使从所述喷嘴喷出至喷嘴槽的所述处理液向所述喷嘴循环，该喷嘴槽形成有用于收容所述喷嘴的所述前端部的收容室；以及

在使从所述喷嘴喷出至所述喷嘴槽的所述处理液向所述喷嘴循环时，限制所述喷嘴槽的外部与存在于所述喷嘴槽的内部的所述处理液之间的气体的流动。

12.根据权利要求11所述的基板处理方法，其特征在于，

限制所述喷嘴槽的外部与存在于所述喷嘴槽的内部的所述处理液之间的气体的流动的工序包括以下工序：对形成于所述喷嘴槽与被收容在所述喷嘴槽的所述收容室中的所述喷嘴之间的间隙的气氛进行置换。