[发明专利]一种石膏基3D打印材料及其制备方法有效
申请号: | 201910711676.4 | 申请日: | 2019-08-02 |
公开(公告)号: | CN110482983B | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 黄健;蔡培根;黄旭;邓炜山;马保国;李相国;蹇守卫;谭洪波 | 申请(专利权)人: | 武汉理工大学 |
主分类号: | C04B28/14 | 分类号: | C04B28/14;C08F2/50;C08F283/00;C08F220/10;C08F220/34;C08F222/20;B33Y70/10 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 崔友明 |
地址: | 430070 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石膏 打印 材料 及其 制备 方法 | ||
本发明提供一种石膏基3D打印材料及其制备方法,该石膏基3D打印材料,由壳材结构和固化在壳材结构内部的芯材结构组成;壳材结构由光敏树脂体系在3D打印过程中经紫外光照射固化形成;芯材结构由石膏体系在3D打印过程中经红外线辐射固化形成;光敏树脂体系和石膏体系在3D打印过程中同轴挤出。本发明的石膏基3D打印材料以受紫外光照射固化的光敏树脂体系作为壳材结构,以受红外线辐射固化的石膏体系作为芯材结构,且采用同轴挤出的方法同时挤出光敏树脂体系和石膏体系,极大地提升了传统纯石膏挤出凝结后的层间强度,并在三维结构尤其是Z轴方向上能实现更好的堆积性,同时,光引发固化与红外热致固化的结合,可大大提高打印精度。
技术领域
本发明涉及3D打印技术领域,特别涉及一种石膏基3D打印材料及其制备方法。
背景技术
3D打印技术即三维快速成型打印,通过数字模型的输入,以及对立体图形的分层离散处理,拥有挤出、粉末床、液体床、光固化等多种成型方式。3D打印技术涉及材料科学、信息处理、机电控制等多学科的交叉,通过计算机对模型尺寸的准确绘制和3D打印机的程序控制来实现无差定位和精准成型。并且在建筑、交通、医疗等行业都有广阔的应用前景,是21世纪的新兴产业计划。
目前,有机高分子类材料具有耐磨、可塑性强和打印精度高等优点,但其拉伸强度和热变形温度低使得应用具有很大的局限性;金属材料力学性能和化学性能优异,材料昂贵、普遍自重大且对温度要求较高提升了打印难度;无机非金属材料石膏来源广、价格低廉、力学强度和生物相容性好,但在石膏基3D打印挤出成型的过程中容易出现堆积性差、打印精度低和固化后层间粘结强度低等问题。
发明内容
有鉴于此,本发明旨在提出一种石膏基3D打印材料,以解决现有石膏基3D打印材料在挤出成型过程中堆积性差、打印精度低、固化后层间粘结强度低的问题。
为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:
一种石膏基3D打印材料,由壳材结构和固化在所述壳材结构内部的芯材结构组成;所述壳材结构由光敏树脂体系在3D打印过程中经紫外光照射固化形成;所述芯材结构由石膏体系在3D打印过程中经红外线辐射固化形成;所述光敏树脂体系和所述石膏体系在3D打印过程中同轴挤出。
可选地,按重量份计,所述光敏树脂体系包括以下组分:光敏树脂基体:30-50份,光引发剂:0.1-1.2份,紫外线阻断剂:0.05-1.0份,活性稀释剂:15-25份,低聚物:35-45份,树脂-石膏界面改性剂:0.6-6.0份。
可选地,所述光敏树脂基体为丙烯酸酯预聚物;所述光引发剂为2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦;所述紫外线阻断剂为2,5-双(5-叔丁基-2-苯并恶唑)噻吩;所述活性稀释剂为2-丙烯酸-2-[[(丁基氨基)-羰基]氧代]乙酯;所述低聚物为脂肪族聚氨酯丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯中的一种;所述树脂-石膏界面改性剂为硅烷偶联剂、液体铝酸酯偶联剂中的一种。
可选地,所述丙烯酸酯预聚物对红外线的透过率为80%-90%。
可选地,按重量份计,所述石膏体系包括以下组分:石膏:50-70份,水:15-30份,石膏缓凝剂:0.1-5.0份,石膏增稠保水剂:0.5-6.0份,石膏触变剂:1.0-8.0份,石膏红外吸热剂:1.0-6.0份,石膏热致速凝剂:0.8-6.0份。
可选地,所述石膏为α-半水石膏;所述石膏缓凝剂为偏磷酸钠、柠檬酸、蛋白类复合缓凝剂中的一种或多种;所述石膏增稠保水剂为甲基纤维素、糊精、膨润土中的一种或多种;所述石膏触变剂为凹凸棒土、亲水性气相纳米二氧化硅、淀粉醚中的一种或多种;所述石膏红外吸热剂为炭黑、氧化石墨烯中的一种或多种;所述石膏热致速凝剂为硫代硫酸钾、硫代硫酸钠中的一种。
可选地,所述石膏红外吸热剂对红外波长光源的吸收率≥95%。
本发明的第二目的在于提供一种制备上述石膏基3D打印材料的方法,该制备方法包括以下步骤:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉理工大学,未经武汉理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910711676.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种被动式复合调湿颗粒
- 下一篇:一种防水型纤维石膏板的制备工艺