[发明专利]一种双面金色装饰玻璃及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910711698.0 申请日: 2019-08-02
公开(公告)号: CN110395915A 公开(公告)日: 2019-11-01
发明(设计)人: 林孝发;林孝山;张洁林 申请(专利权)人: 福建西河卫浴科技有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36;B41M5/00;B41M7/00
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 张松亭;游学明
地址: 362000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 膜层 玻璃基片 金色装饰 玻璃 制备 光线透过率 第一膜层 金属光泽 装饰效果 反射率 金色
【权利要求书】:

1.一种双面金色装饰玻璃,包括玻璃基片,其特征在于:所述的玻璃基片上设有四个膜层,其中,玻璃基片的厚度为4mm~12mm,第一膜层即最内层为TiO2层,厚度为65~90nm;第二膜层为厚度55~70nm的Si3N4层或厚度为95~110nm的SiO2层;第三膜层为Cr层,厚度为50~85nm;第四膜层即最外层为Si3N4或ZrCN层或ZrN层,厚度为20~55nm。

2.根据权利要求1所述的一种双面金色装饰玻璃,其特征在于:玻璃基片的厚度为6~8mm。

3.根据权利要求2所述的一种双面金色装饰玻璃,其特征在于:玻璃基片的厚度为6mm。

4.根据权利要求1所述的一种双面金色装饰玻璃,其特征在于:第一膜层厚度为70~85nm。

5.根据权利要求1所述的一种双面金色装饰玻璃,其特征在于:第三膜层厚度为55~80nm。

6.根据权利要求1所述的一种双面金色装饰玻璃,其特征在于:第四膜层厚度为25~50nm。

7.根据权利要求1所述的一种双面金色装饰玻璃,其特征在于:所述的金色为法兰金,第一膜层为TiO2层,厚度70~85nm;第二膜层为SiO2层,厚度95~110nm;第三膜层为Cr层,厚度为65~80nm;第四膜层即最外层为Si3N4,厚度35~50nm,或第四膜层为ZrN层,厚度25~40nm。

8.根据权利要求1所述的一种双面金色装饰玻璃,其特征在于:所述的金色为纯金色,第一膜层为TiO2层,厚度70~85nm;第二膜层为Si3N4层,厚度为55~70nm;第三膜层为Cr层,厚度为55~80nm;第四膜层即最外层为Si3N4,厚度20~45nm,或第四膜层为ZrCN层,厚度25~50nm。

9.根据权利要求1至8任一项所述的一种双面金色装饰玻璃的制备方法,包括如下步骤:

1)将玻璃基板清洗干净,然后风干;

2)玻璃基板进入UV打印机,根据花纹图案打印相对应的花纹;

3)玻璃基板进入磁控溅射的镀膜区域,在玻璃基板上镀制双面金色膜层:

A.磁控溅射TiO2层,用交流中频电源、氧气作反应气体溅射陶瓷氧化钛靶材,氩氧比为(500~520sccm):(16~25sccm);

B.磁控溅射Si3N4层,用交流中频电源、氮气作反应气体溅射硅铝靶材,氩氮比为氩氮比为(400~420sccm):(360~400sccm);

或磁控溅射SiO2层,用交流中频电源、氧气作反应气体溅射硅铝靶材,氩氧比为(490~510sccm):(260-280sccm);

C.磁控溅射Cr层,直流电源溅射,用氩气作工艺气体,气体流量为490-510sccm;

D.磁控溅射Si3N4层,用交流中频电源、氮气作反应气体溅射硅铝靶材,氩氮比为(400~420sccm):(360~400sccm);

或磁控溅射ZrN层,用交流中频电源、氮气作反应气体溅射纯锆靶材,氩氮比为(400~500sccm):(600~700sccm);

或磁控溅射ZrCN层,用交流中频电源、氮气和乙炔作反应气体溅射纯锆靶材,氩气:氮气:乙炔比例为(400~450sccm):(500~550sccm):(100~150sccm);

4)镀膜完成后用溶剂溶解掉UV油墨,清洗干净后得到所述的双面金色装饰玻璃。

10.根据权利要求9所述的一种双面金色装饰玻璃的制备方法,其特征在于:步骤4)所述的溶剂包括酒精或天那水。

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