[发明专利]一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法

说明书

本发明公开了一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法，包括移动平台、工作台面、微流体喷头和控制器，移动平台上设置有微流体喷头，移动平台能够带动微流体喷头实现X、Y、Z方向的平移，工作台面用于放置带有保护膜胶印的光掩模板，工作台面位于微流体喷头移动范围的下方。控制器控制移动平台使微流体喷头移动至保护膜胶印处，开启药剂泵与真空泵，控制器根据激光测距仪的数据调整微流体喷头的竖直距离，调控真空泵的转速使喷嘴槽内产生的虹吸效应，移动并对保护膜胶印进行清洗。本发明的微流体喷头在喷嘴槽内形成流动的“液带”，可以持续喷涂新鲜的药剂，同时可以将清洗后的废液及时带走，大大缩短了清洗工艺的时间，高效省时。

技术领域

本发明涉及胶印去除设备的技术领域，特别是涉及一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法。

背景技术

光掩模板在转移运输和使用过程中，需要贴上一个保护膜，将光掩模板中间的图形区域与周围的环境隔离。如果在运输或使用过程中有损坏或光掩模表面有颗粒出现，需将保护膜揭下来，此时一般会有胶印残留在光掩模板上，这时就需要将残留的保护膜胶印去除。

现有的方法仅在表面有胶印的地方，用吸附性较强的洁净纸或洁净布浸染化学药剂，将胶印擦拭清洗。因为清洗药剂绝对不允许碰触到光掩模板中间的图形区域，手工擦拭或机械自动擦拭都很难不影响光掩模中间的图形区，而且由于采用接触式擦拭方法，光掩模板表面都会或多或少留下擦痕损伤，减少光掩模板的使用寿命。

发明内容

本发明的目的是提供一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法，以解决上述现有技术存在的问题，使光掩模板上的保护膜胶印去除工艺高效、快速、精准，非接触式去除保护膜胶印能够提高光掩模板的使用寿命。

为实现上述目的，本发明提供了如下方案：

本发明提供了一种光掩模板保护膜胶印去除的装置及方法，包括移动平台、工作台面、微流体喷头和控制器，所述移动平台上设置有所述微流体喷头，所述移动平台能够带动所述微流体喷头实现X、Y、Z方向的平移，所述工作台面用于放置带有保护膜胶印的光掩模板，所述工作台面位于所述微流体喷头移动范围的下方，所述能够使清洗药剂在所述微流体喷头的喷嘴槽内流动，所述控制器与所述移动平台的电机电连接。

优选的，所述微流体喷头设置有药剂出口和真空吸口，所述药剂出口通过一药剂泵与药剂罐连通，所述真空吸口与一真空泵连通，所述药剂出口和所述真空吸口设置于所述喷嘴槽内。

优选的，所述药剂泵与所述药剂出口之间的管路上设置有一加热装置和温度计，所述加热装置和所述温度计分别与所述控制器电连接。

优选的，所述工作台面内设置有加热器和温度传感器，所述加热器和所述温度传感器分别与所述控制器电连接。

优选的，所述微流体喷头一侧设置有激光测距仪，所述激光测距仪与所述控制器电连接。

优选的，所述微流体喷头前后并列设置有若干个。

本发明还提出了一种基于上述的光掩模板保护膜胶印去除的装置的一种光掩模板保护膜胶印去除的方法，首先将带有保护膜胶印的光掩模板放置于工作台面进行预热准备，控制器分别控制加热器、加热装置和激光测距仪开启，所述控制器通过温度传感器调控所述加热器的加热温度，所述控制器通过温度计调控所述加热装置的加热温度；

所述控制器控制移动平台的电机使微流体喷头移动至所述保护膜胶印的起点处，开启药剂泵与真空泵，所述控制器根据激光测距仪的数据调整微流体喷头距离所述光掩模板的竖直距离，所述控制器调控所述真空泵的转速，使所述药剂出口和所述真空吸口之间产生的虹吸效应会限制药剂在喷嘴槽内形成带状流动，所述控制器根据所述保护膜胶印的残留痕迹控制所述微流体喷头的移动方向并对所述保护膜胶印进行清洗作业。

优选的，所述控制器调控所述加热器的加热温度范围为20℃-200℃。