[发明专利]一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法

权利要求书

1.一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法，其特征在于：

步骤1：制备介电常数在1000~5000之间的介电陶瓷抛光盘；

步骤2：制备介电常数在1000~5000之间的多孔介电陶瓷真空吸附基盘；

步骤3：制备化学抛光液；所述化学抛光液由0.5~5wt%pH调节剂、0.5~2wt%表面活性剂、1~3wt%缓蚀剂、0.5~1wt%抗磨剂、1~5wt%粘度调节剂和1~5wt%氧化剂混合得到；所述pH调节剂是稀盐酸或者氢氧化钾水溶液；

步骤4：将介电陶瓷抛光盘放置在平面抛光机基盘上，工件吸附在多孔介电陶瓷真空吸附基盘上，将多孔介电陶瓷真空吸附基盘放置在夹具中，夹具压力为1~20MPa，气动加压，使工件与介电陶瓷抛光盘接触，电机带动介电陶瓷抛光盘旋转主动旋转，并带动工件被动旋转，介电陶瓷抛光盘转速为50~150rpm，滴加抛光液，将多孔介电陶瓷真空吸附基盘电极和介电陶瓷抛光盘电极接通直流电源进行抛光加工，所述的电源电压是20~200V，抛光温度为30~38℃；当抛光液pH值为3~4时，多孔介电陶瓷真空吸附基盘电极接负极，介电陶瓷抛光盘电极接正极，接通电源后工件表面抛光液pH值达到1~2；抛光液pH值为9~10时，多孔介电陶瓷真空吸附基盘电极接正极，介电陶瓷抛光盘电极接负极，接通电源后工件表面抛光液PH值达到11~12。

2.根据权利要求书1所述的一种利用电场效应增强加工区域酸碱度的锗平面镜化学抛光方法，其特征在于所述步骤1具体为：

步骤1.1：以异丙醇铝作为先驱体溶于蒸馏水中，并在50~100rpm搅拌速度的条件下加热到85℃进行水解，水解1小时后，加入硝酸作为胶溶剂，制备得到铝溶胶，所述铝溶胶中的异丙醇铝、硝酸和蒸馏水的摩尔比为1~5：0.1~0.5：100；将得到的铝溶胶升温老化后，加入粒径为50~100nm介电陶瓷粉体，所述的介电陶瓷粉体为BaO-Ln₂O₃-TiO₂、复合钙钛矿CaO₂-Li₂O₂-Ln₂O₃-TiO₂或者铅基钙钛矿中的任意一种，且介电陶瓷粉体与异丙醇铝的质量比为1~10:1，搅拌均匀后得到复合凝胶，将复合凝胶干燥，1000~1500℃煅烧后制备得到氧化铝-介电陶瓷复合粉体；

步骤1.2：在氧化铝-介电陶瓷复合粉体中加入质量浓度为5%的聚乙烯醇溶液中，使用球磨机混合均匀，过200目筛，室温下干燥12小时后放入模具中，在成型压力为2~6Mpa时进行干压成型抛光盘素坯，使用激光束或精雕机在抛光盘素坯表面加工直径0.01~1mm的圆凹坑微织构，在1200~1500℃条件下烧结，得到预成型抛光盘；

步骤1.3：将预成型抛光盘在平面磨床上进行表面磨平，平面度达到1微米，然后在预成型抛光盘的非加工端面涂上高温银浆，干燥后得到高温导电银浆涂层，涂层上接上电极，刷上绝缘漆进行绝缘处理，得到介电常数在1000~5000之间的成型的介电陶瓷抛光盘。