[发明专利]发光信号强度控制方法及电子装置

权利要求书

1.一种发光信号强度控制方法，其特征在于，适于电子装置，该电子装置包含处理元件、发光元件，以及感测模组，其中该发光元件包含指纹感测区域，包含多个发光像素，排列成一阵列，而该感测模组安置于该指纹感测区域的下方，该发光信号强度控制方法包含：

该处理元件依据优化数据控制该发光元件的该指纹感测区域发出优化照射光束至放置于该指纹感测区域上方的手指，该优化照射光束经该手指反射后，到达该感测模组，以产生指纹影像，其中该优化照射光束的光信号强度分布是不均匀的，

其中从该指纹感测区域的中心至外围至少划分为第一区域以及第二区域，而位于该第一区域中的发光像素所发出的光信号强度小于位于该第二区域中的发光像素所发出的光信号强度。

2.根据权利要求1所述的发光信号强度控制方法，其特征在于，还包含：

该处理元件启动该发光元件以发出照射光束，其中该照射光束的光信号强度分布是均匀的；

该感测模组感测由该手指所反射的反射光束以得到原始数据；以及

该处理元件根据该原始数据以形成出该优化数据。

3.根据权利要求2所述的发光信号强度控制方法，其特征在于，启动该发光元件以发出该照射光束的方法包含：

施加相同电压至该发光元件的该指纹感测区域中的该些发光像素。

4.根据权利要求2所述的发光信号强度控制方法，其特征在于，该原始数据为由该感测模组对该手指所反射的该反射光束进行感测而得出的反射光信号强度分布，其中该感测模组所感测到的该反射光信号强度分布，距离该指纹感测区域的中心位置愈近，光信号强度愈大，距离该指纹感测区域的中心位置愈远，光信号强度愈小。

5.根据权利要求2所述的发光信号强度控制方法，其特征在于，根据该原始数据以形成出该优化数据的方法包含：

将该原始数据的数值进行倒数化以形成该优化数据。

6.根据权利要求1所述的发光信号强度控制方法，其特征在于，另包含：

该处理元件启动该发光元件以发出照射光束，其中该照射光束的光信号强度分布是均匀的；

该感测模组感测由该手指所反射的反射光束以得到原始数据，其中该感测模组包含多个感测像素，排列成感测阵列；以及

重复执行上述两个步骤，以产生对应于不同发光信号强度的多笔该原始数据，并且产生多个类比转数位能量速度相对于该感测阵列中不同坐标位置的该些感测像素的多个分布曲线；

依据该些分布曲线建立出控制模型；

提供感测目标值；以及

利用该控制模型，依据该感测目标值计算出该指纹感测区域中不同位置的该些发光像素的发光信号强度，以产生该优化数据。

7.根据权利要求1所述的发光信号强度控制方法，其特征在于，该处理元件依据该优化数据控制该发光元件发出该优化照射光束的方法包含：

该处理元件依据该优化数据对应调整该发光元件的该指纹感测区域中的该些发光像素的电性参数。

8.根据权利要求1所述的发光信号强度控制方法，其特征在于，该优化照射光束的光信号强度分布是根据三维空间的高斯函数分布呈现距离该指纹感测区域的中心位置愈远，光信号强度愈大的光信号强度分布。

9.一种电子装置，其特征在于，用以感测手指的指纹影像，包含：

发光元件，包含指纹感测区域，包含多个发光像素，排列成一阵列，用以提供优化照射光束至该手指；

处理元件，用以依据优化数据控制该发光元件；以及

感测模组，安置于该指纹感测区域的下方，用以接收经该手指反射后到达该感测模组的该优化照射光束以产生该指纹影像，其中该优化照射光束的光信号强度分布是不均匀的，

其中从该指纹感测区域的中心至外围至少划分为第一区域以及第二区域，而位于该第一区域中的发光像素所发出的光信号强度小于位于该第二区域中的发光像素所发出的光信号强度。