[发明专利]防污性薄膜的制造方法

权利要求书

1.一种防污性薄膜的制造方法，所述防污性薄膜具有：基材；以及聚合体层，其配置于所述基材的表面上，在表面具有将多个凸部以可见光的波长以下的间距来设置的凹凸构造，

所述防污性薄膜的制造方法的特征在于，具有下述工序：

工序（1），在该工序中，在模具的表面上涂布离型处理剂，将水相对于所述模具的涂布了所述离型处理剂的表面的接触角调节为90～150°；

工序（2），在该工序中，将树脂涂布于所述基材的表面上；

工序（3），在该工序中，在将所述树脂夹在其间的状态下，将所述基材向所述模具的涂布了所述离型处理剂的表面按压，形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层；以及

工序（4），在该工序中，使所述树脂层硬化，形成所述聚合体层，

所述树脂以有效成分换算，含有具有（甲基）丙烯酰基的氟系低聚物2.5～12.5重量%，含有每一个分子具有1个（甲基）丙烯酰基的全氟烷基系单体2.5～9重量%，

所述氟系低聚物含有全氟聚醚系低聚物及全氟烷基系低聚物之中的至少一者，

所述全氟烷基系单体中的氟原子浓度是50～60重量%。

2.根据权利要求1所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

在所述工序（1）中，相对于所述模具的涂布了所述离型处理剂的表面，照射准分子紫外线。

3.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

在所述工序（1）中在所述模具的表面上涂布的所述离型处理剂，有效成分浓度为0.0001～0.001重量%。

4.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

在所述工序（1）中在所述模具的表面上涂布的所述离型处理剂，是每1个分子具有3～25个CF₂基的硅烷偶联剂。

5.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

所述树脂以有效成分换算，含有所述氟系低聚物5～10重量%。

6.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

所述树脂以有效成分换算，含有所述全氟烷基系单体3～7重量%。

7.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

所述全氟烷基系单体中的氟原子浓度是52～60重量%。

8.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

所述树脂还含有单官能酰胺单体。

9.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

所述聚合体层的厚度是5～20μm。

10.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

所述多个凸部的平均间距是100～400nm。

11.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

所述多个凸部的平均高度是50～600nm。

12.根据权利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，

所述多个凸部的平均纵横比是0.8～1.5。