[发明专利]一种三独立栅FinFET器件有效
申请号: | 201910728736.3 | 申请日: | 2019-08-08 |
公开(公告)号: | CN110544717B | 公开(公告)日: | 2023-03-10 |
发明(设计)人: | 胡建平;陈泽奇 | 申请(专利权)人: | 宁波大学 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/41;H01L29/423;H01L29/78 |
代理公司: | 宁波奥圣专利代理有限公司 33226 | 代理人: | 方小惠 |
地址: | 315211 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 独立 finfet 器件 | ||
本发明公开勒一种三独立栅FinFET器件,包括衬底、绝缘层、源极、沟道、漏极、背栅电极、前栅电极、顶栅电极、第一栅氧化层、第二栅氧化层和第三栅氧化层,衬底和绝缘层均为长方体结构,源极、沟道和漏极按照从右到左的顺序依次设置在绝缘层上表面,源极、沟道和漏极分别采用T型结构实现;优点是可以代替原本复杂的“与或非”门结构,采用该三独立栅FinFET器件实现具有三输入多数功能的逻辑电路时,只需要采用一个N型三独立栅FinFET器件和P型三独立栅FinFET器件,由此可以使具有三输入多数功能的逻辑电路采用的晶体管数量较少,结构简单,硬件消耗面积减少,功耗较低,延迟较小。
技术领域
本发明涉及一种FinFET器件,尤其是涉及一种三独立栅FinFET器件。
背景技术
FinFET器件(鳍式场效晶体管,Fin Field-Effect Transistor)是一种新型互补式金氧半导体晶体管。FinFET器件的沟道采用零掺杂或是低掺杂,其沟道被栅三面包围,这种特殊的三维立体结构,增强了栅对沟道的控制力度,极大的抑制了短沟道效应,从而抑制了FinFET器件的漏电流。由于FinFET器件可以用前栅和背栅来控制电路的接通和断开,因此当前FinFET器件可以分为同栅FinFET器件和分栅FinFET器件。
在数字电路设计领域中,具有三输入多数功能的逻辑电路作为一种基本逻辑电路,应用在很多数字电路系统中。具有三输入多数功能的逻辑电路的实现原理为:当该电路的三个输入中有两个或者两个以上为高电平时,该电路导通,否则,该电路关断。
现有的具有三输入多数功能的逻辑电路的核心器件主要通过“与或非”等门电路结合FinFET器件来实现。但是不管是采用现有的分栅FinFET器件还是采用现有的同栅FinFET器件,其数量都需要至少两对(一对FinFET器件包括一个N型FinFET器件和一个p 型FinFET器件)。由此导致具有三输入多数功能的逻辑电路采用晶体管数量较多,结构复杂,硬件消耗面积大,功耗高,延迟大。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种三独立栅FinFET器件,采用该三独立栅FinFET器件实现具有三输入多数功能的逻辑电路时,只需要采用一个N型三独立栅 FinFET器件和P型三独立栅FinFET器件,由此可以使具有三输入多数功能的逻辑电路采用的晶体管数量较少,结构简单,硬件消耗面积减少,功耗较低,延迟较小。
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