[发明专利]反射镜和反射镜基底及用于其生产的方法和装置

权利要求书

1.一种反射镜基底，其包括平均线性热膨胀系数小于或等于1*10^-6/K、优选小于或等于0.1*10^-6/K、最优选小于或等于0.05*10^-6/K的材料，其中所述反射镜基底具有以下特征中的至少一个：

-所述反射镜基底的横向尺寸与其最大厚度的比为至少100、优选为至少150、更优选为至少200、并且最优选为300或更大；以及

-所述反射镜基底的每单位面积的重量为100kg/m²或更小、优选为50kg/m²或更小、更优选为30kg/m²、并且最优选为15kg/m²或更小；

其中，所述反射镜基底具有粗糙度R_a为至多3.5μm、优选小于1.2μm的镜面。

2.根据权利要求1所述的反射镜基底，其中所述反射镜基底的最大厚度为50mm或更小，尤其20mm或更小，优选为15mm或更小，更优选为10mm或更小，并且最优选为2mm或更小。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的反射镜基底，其中所述反射镜基底的横向尺寸为至少200mm和/或至多4500mm。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的反射镜基底，其中所述表面的粗糙度RMS小于2nm、优选小于1nm，其中所述反射镜基底的所述表面优选具有抛光表面光洁度。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的反射镜基底，其中所述反射镜基底包括：玻璃陶瓷，优选为锂铝硅酸盐玻璃陶瓷，所述锂铝硅酸盐玻璃陶瓷优选为高石英固溶体玻璃陶瓷的形式；和/或Ti掺杂的合成二氧化硅玻璃；和/或陶瓷，优选为包含堇青石和/或SiC的陶瓷。

6.一种反射镜，其包括根据权利要求1至5中任一项所述的反射镜基底和所述反射镜基底的所述镜面上的高反射层。

7.一种支撑件(1)，其用于优选地在其整个表面上支撑反射镜基底(20)，特别是根据权利要求1至5中任一项所述的反射镜基底(20)，所述反射镜基底(20)在其加工和/或运输期间承载在所述支撑件(1)上；其中所述支撑件包括平均线性热膨胀系数小于或等于1*10^-6/K、优选小于或等于0.1*10^-6/K、以及最优选小于或等于0.05*10^-6/K的材料。

8.根据权利要求7所述的支撑件，其中承载有所述反射镜基底(20)的支撑件的表面具有弯曲的形状；

其中，优选地，所述支撑件的所述表面与包络面近似；并且

其中，最优选地，所述支撑件与所述包络面之间的偏差：

对于横向尺寸为至少4000mm的反射镜基底，所述偏差不大于0.5mm，优选不大于0.025mm；和/或

优选地，对于横向尺寸为至少2000mm的反射镜基底(20)，所述偏差不大于0.2mm，优选不大于0.025mm；和/或

优选地，对于横向尺寸为至少1200mm的反射镜基底(20)，所述偏差不大于0.1mm，优选不大于0.01mm。

9.根据权利要求7至8中任一项所述的支撑件，其中所述支撑件的所述表面至少部分地被中间材料(13)覆盖，特别是被膜、优选聚合物膜覆盖；

其中，优选地，所述中间材料(13)的厚度至少与所述表面的实际形状与所述包络面之间的偏差一样大；并且

其中，优选地，所述中间材料(13)的最大厚度为至多200μm、优选为至多100μm、更优选为至多50μm，或者最优选甚至不大于25μm，

优选地，其中所述中间材料(13)包含聚氯乙烯。