[发明专利]等离子体洗涤装置

权利要求书

1.一种等离子体洗涤装置，其特征在于，包括：

反应单元，将从半导体蚀刻工序排出的有害气体通过等离子体的高热而热解、离子化并燃烧而生成分解气体；

一次冷却单元，将高温的所述分解气体通过与冷却水间接接触的方式冷却至第一温度以下；

二次冷却单元，将一次冷却后的所述分解气体通过与冷却水间接接触的方式冷却至第二温度以下；

粉末收集单元，收集二次冷却后的所述分解气体中所包含的粉末；以及

排出单元，将所述分解气体排出。

2.根据权利要求1所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，

所述一次冷却单元包括：

冷却腔室，在上端形成有气体流入口，在侧面形成有气体流出口；

冷却水流入口，形成于所述冷却腔室的下部侧面；

冷却水流出口，形成于所述冷却腔室的上部；以及

冷却线圈，从所述冷却腔室的内表面隔开而设置，

其中，流入所述冷却水流入口的冷却水以夹套方式阻断从所述冷却腔室释放的热量并经过所述冷却线圈而通过所述冷却水流出口排出，流入的分解气体通过所述冷却线圈的内部流动而通过与所述冷却水的间接接触而被冷却。

3.根据权利要求2所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，

所述冷却线圈的高度小于所述冷却腔室的高度，从而在所述冷却腔室的底部形成粉末装载空间，以装载由于自重向下方掉落的粉末。

4.根据权利要求1所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，

所述二次冷却单元包括：

冷却腔室，在下部侧面形成有气体流入口，在上端形成有气体流出口；

多个筒状的隔壁，在所述冷却腔室的内部以同心圆形状隔开设置；以及

冷却管，以线圈形状缠绕各个所述隔壁的外表面并连接于冷却水流入口及冷却水流出口，

其中，通过所述气体流入口流入的分解气体通过所述隔壁之间而沿高度方向往复，进而通过所述气体流出口排出，在往复的过程中由于在所述冷却管流动的冷却水而通过间接接触方式被冷却。

5.根据权利要求4所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，

在所述隔壁形成有开口，进而所述分解气体通过所述隔壁之间而沿高度方向流动。

6.根据权利要求5所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，

所述隔壁中的一个的高度方向的长度比其他隔壁短，进而沿高度方向形成连通的通路。