[发明专利]半导体封装在审

专利信息
申请号: 201910729880.9 申请日: 2019-08-08
公开(公告)号: CN111223829A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 柳承官;崔允硕 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485;H01L23/498;H01L25/18;H01L21/60
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周泉
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装
【权利要求书】:

1.一种半导体封装,包括:

衬底封装基板,包括:

设置有再分布层的再分布区域,多个竖直导电通道连接到所述再分布层,并且凹陷区域从所述再分布区域的上表面凹进;以及

转接板,在所述凹陷区域中,所述转接板包括基板、设置在所述基板的上表面处的多个上焊盘、以及分别连接到所述多个上焊盘以穿过所述基板的多个贯通电极;以及

第一半导体芯片和第二半导体芯片,各自包括多个导电互连端子,所述多个导电互连端子分别连接到所述多个上焊盘和在所述再分布区域的所述上表面处暴露的所述竖直导电通道,所述第一半导体芯片和所述第二半导体芯片安装在所述再分布区域和所述转接板上并且水平地彼此分开设置,

其中,从平面图的角度,所述转接板被设置为与所述第一半导体芯片和所述第二半导体芯片中的每一个的一部分重叠。

2.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述上焊盘的最小间距小于在所述再分布区域的所述上表面处暴露的所述竖直导电通道的最小间距。

3.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述竖直导电通道具有渐缩形状,其中,所述渐缩形状的宽度随着远离所述第一半导体芯片和所述第二半导体芯片而逐渐增大。

4.根据权利要求1所述的半导体封装,其中:

所述转接板包括晶圆基板,并且

所述贯通电极穿过所述晶圆基板并直接连接到所述竖直导电通道,所述竖直导电通道直接连接到设置在所述转接板下方的所述再分布层。

5.根据权利要求1所述的半导体封装,其中:

所述第一半导体芯片包括单个逻辑芯片,并且

所述第二半导体芯片包括存储器芯片组,所述存储器芯片组使得多条数据能够在所述存储器芯片组的存储器芯片之间合并。

6.根据权利要求5所述的半导体封装,其中:

所述第一半导体芯片和所述第二半导体芯片通过所述转接板在所述第一半导体芯片与所述第二半导体芯片之间传输数据信号,并且

所述第一半导体芯片和所述第二半导体芯片中的每一个通过一组所述竖直导电通道和所述再分布层被供电或接地。

7.根据权利要求1所述的半导体封装,还包括:

层间绝缘层,围绕所述再分布层和所述多个竖直导电通道;以及

模制部件,至少围绕所述第一半导体芯片和所述第二半导体芯片中的每一个的侧表面以及所述衬底封装基板的上表面,

其中,所述层间绝缘层的侧表面和所述模制部件的侧表面是共面的。

8.根据权利要求7所述的半导体封装,在所述再分布区域的所述上表面处暴露的所述竖直导电通道的最上表面、所述层间绝缘层的最上表面和所述转接板的最上表面是共面的。

9.一种半导体封装,包括:

衬底封装基板,包括:

绝缘材料部分,由层间绝缘层形成,所述绝缘材料部分包括凹陷区域并且包括再分布区域,其中,在所述再分布区域中,多个再分布层被设置为连接到多个竖直导电通道;以及

转接板,设置在所述凹陷区域中,所述转接板包括衬底基板、设置在所述衬底基板的上表面处的多个上焊盘、以及分别连接到所述多个上焊盘以穿过所述衬底基板的多个贯通电极;

第一半导体芯片,安装在所述衬底封装基板上,所述第一半导体芯片包括:

多个第一导电互连端子,分别连接到所述多个上焊盘中的第一组上焊盘;以及

多个第二导电互连端子,分别连接到在所述凹陷区域外部的所述多个竖直导电通道中的第一组竖直导电通道;以及

第二半导体芯片,安装在所述衬底封装基板上以与所述第一半导体芯片水平地间隔开,所述第二半导体芯片包括:

多个第三导电互连端子,分别连接到所述多个上焊盘中的第二组上焊盘;以及

多个第四导电互连端子,分别连接到在所述凹陷区域外部的所述多个竖直导电通道中的第二组竖直导电通道,

其中,从平面图的角度,所述转接板被设置为与所述第一半导体芯片和所述第二半导体芯片中的每一个的一部分重叠。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910729880.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code