[发明专利]用于钟表的具有表面纹理结构的部件及其制造方法

权利要求书

1.一种具有摩擦接触的两个部件(2)的系统(1)，所述两个部件用于在给定的摩擦方向上通过摩擦表面彼此摩擦接触，其中摩擦发生在“功能区域”中，该系统(1)的特征在于，所述两个部件(2)中的至少一个部件在功能区域中包括带有纹理结构的表面，该纹理结构由一系列通过峰部(3b)分隔开的弧形的槽(3a)形成或由一系列通过槽(3a)分隔开的弧形的凸起(3c)形成，所述槽(3a)平行于所述给定的摩擦方向延伸，并允许排出由摩擦产生的碎屑(4)并用作润滑剂(5)的储存部，所述槽(3a)的深度P大于或等于100纳米且小于或等于1000纳米。

2.根据权利要求1所述的系统(1)，其特征在于，所述槽(3a)是纵向的并且彼此平行。

3.根据权利要求1所述的系统(1)，其特征在于，所述槽(3a)的深度P小于或等于300纳米。

4.根据权利要求1所述的系统(1)，其特征在于，一系列的槽(3a)和峰部(3b)或一系列的凸起(3c)和槽(3a)形成周期性结构。

5.根据权利要求1所述的系统(1)，其特征在于，所述纹理结构位于通过深反应离子蚀刻加工的所述至少一个部件(2)的一个侧壁(8a，9b)上。

6.根据权利要求1所述的系统(1)，其特征在于，所述两个部件(2)中的每一个部件在功能区域中的一个表面上均包括所述纹理结构，所述槽(3a)彼此面对面地设置。

7.根据权利要求1所述的系统(1)，其特征在于，所述至少一个部件(2)中的仅一个在其表面上包括所述纹理结构，所述系统(1)的另一个部件(2)在所述功能区域中具有光滑表面。

8.根据权利要求1所述的系统(1)，其特征在于，所述至少一个部件(2)由硅或金属制成。

9.根据权利要求1所述的系统(1)，其特征在于，所述两个部件(2)都是钟表部件。

10.一种包括具有摩擦接触的两个部件(2)的系统(1)的钟表，所述两个部件用于在给定的摩擦方向上通过摩擦表面彼此摩擦接触，其中摩擦发生在“功能区域”中，该系统(1)的特征在于，所述两个部件(2)中的至少一个部件在功能区域包括带有纹理结构的表面，该纹理结构由一系列通过峰部(3b)分隔开的弧形的槽(3a)形成或由一系列通过槽(3a)分隔开的弧形的凸起(3c)形成，所述槽(3a)平行于所述给定的摩擦方向延伸，并允许排出由摩擦产生的碎屑(4)并用作润滑剂(5)的储存部，所述槽(3a)的深度P大于或等于100纳米且小于或等于1000纳米。

11.一种用于生产根据权利要求1所述的系统(1)的所述至少一个部件(2)的模具，所述部件包括一系列由槽(3a)分隔开的弧形的凸起(3c)，其中所述模具在其一个面上包括具有由一系列通过峰部(3b)分隔开的弧形的槽(3a)形成的所述纹理结构的腔。

12.一种用于制造分别由硅制成的模具或部件(2)的方法，该方法包括以下步骤：

(a)提供由硅制成的坯料(10)，

(b)通过深反应离子蚀刻工艺在所述坯料(10)上加工侧壁(8a，9a)以形成模具或部件(2)，经加工侧壁(8a，9a)具有由深反应离子蚀刻工艺形成的扇形纹理结构，所述纹理结构在所述经加工侧壁(8a，9a)上限定一组深度为P的槽(3a)，所述方法的特征在于，在该方法结束时，所述槽(3a)保持在模具或部件(2)的经加工侧壁(8a，9a)上，以在所述经加工侧壁(8a，9a)上形成能够收集碎屑(4)或接收润滑剂(5)的通道，在所述方法结束时，所述模具或所述部件(2)的经加工侧壁(8a，9a)上的所述槽(3a)的深度P大于或等于100纳米且小于或等于1000纳米。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述槽(3a)的深度P小于或等于300纳米。