[发明专利]一种电压可调的双向ESD保护器件及其制作方法在审
申请号: | 201910732974.1 | 申请日: | 2019-08-09 |
公开(公告)号: | CN110444541A | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 杨珏琳;宋文龙;张鹏 | 申请(专利权)人: | 成都吉莱芯科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/732;H01L21/331 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 卢海洋 |
地址: | 四川省成都市自由贸易试验区成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衬底 生长 阻挡层 势垒 双向ESD保护器件 隔离介质层 绝缘介质层 牺牲氧化层 电压可调 掺杂层 背面金属电极 正面金属电极 扩散 淀积金属 基区表面 隔离槽 隔离区 淀积 深槽 制作 | ||
本发明公开一种电压可调的双向ESD保护器件,包括N型衬底,N型衬底上生长有第一次P型外延层,第一次P型外延层注入扩散形成的P型势垒阻挡层,P型势垒阻挡层上生长的第二次P型外延层,第二次P型外延层表面注入扩散形成的N+掺杂层,隔离槽上设有绝缘介质层,N+掺杂层和绝缘介质层上设有正面金属电极,N型衬底底部设有背面金属电极。步骤:1:准备N型衬底,在N型衬底上生长第一次P型外延层;2:在第一次P型外延层上,生长一次牺牲氧化层,形成P型势垒阻挡层;步骤3:进行第二次P型外延层生长;4:第二次P型外延层基区表面再次生长一次牺牲氧化层;5:淀积隔离介质层形成深槽隔离区及隔离介质层;6:淀积金属层。
技术领域
本发明涉及电子科学与技术领域,具体是一种电压可调的双向ESD保护器件及其制作方法。
背景技术
静电放电(ESD)现象广泛存在于日常环境中,它对于精密的集成电路来讲确实致命的威胁,是造成集成电路产品损伤甚至失效的重要原因之一。集成电路产品在其生产、制造、装配以及工作过程中极易受到ESD的影响,造成产品内部损伤、可靠性降低。并且其应用环境会对,也会对电容、击穿电压、钳位特性等参数有相应要求。
针对不同应用,系统对ESD保护器件的参数要求也不一样。根据工作电压不同,相应的ESD保护等级也分为3、5V、7V、12V、24V、36V等电压等级。根据数据传输速度的快慢也对电容有不同要求,针对直流传输或者低速数据传输,可采用普通电容系列的ESD保护器件降低成本;而针对USD3.0及以上的告诉交流传输需求,需要超低电容的ESD保护器件。而针对不同的应用环境,根据系统的负载工作区,对ESD的钳位电压也有相应要求,比如针对汽车总线网络保护应用,就需要ESD的钳位电压低但又不能低于电源电压。
对于集成电路而言,通常用作ESD保护的器件有二极管、GGNMOS(栅接地的NMOS)、BJT(三极管)、SCR(可控硅)等。但在某些特定应用中,需要ESD保护器件具有特定的触发电压,电流泄放能力较强,同时还要求保持电压大于其应用的电压等级,以防止系统开启而导致失效。由于SCR的回扫电压极低,所以对于这一类特定要求的ESD保护,不能采用SCR结构,故采用BJT结构来达到大泄放电流的要求。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术中的不足,提供一种高对称性能且回扫电压可控的双向ESD保护器件的制造方法,通过调整纵向NPN结构中的两次P型外延层的浓度及表面的N型出入浓度,尽量匹配正反向PN结的物理特性,从而获得高对称性。通过调节第一次外延后的硼埋层注入剂量,调节NPN管的放大系数,从而达到保持电压可控。
本发明的技术方案为:一种电压可调的双向ESD保护器件,包括N型衬底、第一次P型外延层、第二次P型外延层、P型势垒阻挡层、N+掺杂区、隔离槽、隔离介质层、正面金属电极、背面金属电极,N型衬底上生长有第一次P型外延层,第一次P型外延层注入扩散形成的P型势垒阻挡层,P型势垒阻挡层上生长的第二次P型外延层,第二次P型外延层表面注入扩散形成的N+掺杂层,隔离槽贯穿NPN结构,隔离槽上设有绝缘介质层,N+掺杂层和绝缘介质层上设有正面金属电极,N型衬底底部设有背面金属电极。
一种电压可调的双向ESD保护器件的制作方法,包括下列步骤:
步骤1:准备N型衬底,在N型衬底上生长第一次P型外延层;
步骤2:在第一次P型外延层上,生长一次牺牲氧化层,并高能注入一次P型杂质,并进入炉管进行一次高温推进,增加P型杂质在P型基区外延表面的高浓度结深,形成P型势垒阻挡层;
步骤3:先进炉HCL气体吹扫,去掉表面氧化层,进行第二次P型外延层生长;
步骤4:第二次P型外延层基区表面再次生长一次牺牲氧化层,并注入一次高能大束流的N型杂质注入形成N+掺杂层,高温退火并同时采用OED氧化增强扩散,增加表面PN结的结深,并生长一定厚度的氧化层;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的