[发明专利]足底按摩机以及具备该足底按摩机的椅子式按摩机有效
申请号: | 201910733316.4 | 申请日: | 2019-08-08 |
公开(公告)号: | CN110946744B | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 小野正生;福永武央 | 申请(专利权)人: | 富士医疗器股份有限公司 |
主分类号: | A61H7/00 | 分类号: | A61H7/00;A61H39/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 肖茂深 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 足底 按摩 以及 具备 椅子 | ||
足底按摩机具备:轨道;轴,其沿左右方向延伸且沿着所述轨道而在前后方向上移动;驱动机构,其使所述轴沿前后方向移动;移动部,其包括向上方突出的施疗件,并伴随着所述轴的前后方向的移动而沿前后方向移动;以及槽,其供所述移动部的下部嵌合。所述槽以向被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。所述移动部能够相对于所述轴而沿左右方向移动。所述轨道和所述槽中的任一方以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。
技术领域
本发明涉及对被施疗者的足底进行按摩的足底按摩机以及具备该足底按摩机的椅子式按摩机。
背景技术
日本特开2008-183277号公报所公开的脚用按摩机通过配合地控制左右气囊的膨胀与对被施疗者的足底进行押压的指压件的前后方向的往复移动,从而能够使指压件通过被施疗者的足底的期望位置。
发明内容
发明要解决的课题
日本特开2008-183277号公报所公开的脚用按摩机利用左右气囊的膨胀来强制地使被施疗者的足底向左右方向移动,对被施疗者的足部施加足底按摩原本不需要的力,有可能引起被施疗者的不适。
本发明鉴于上述情况,其目的在于,提供一种能够在不对被施疗者的足部施加足底按摩原本不需要的力的情况下提高足底的按摩效果的足底按摩机以及具备该足底按摩机的椅子式按摩机。
用于解决课题的手段
本说明书中所公开的足底按摩机为如下结构(第一结构),其中,所述足底按摩机具备:具备:轨道;轴,其沿左右方向延伸且沿着所述轨道而在前后方向上移动;驱动机构,其使所述轴沿前后方向移动;移动部,其包括向上方突出的施疗件,并伴随着所述轴的前后方向的移动而沿前后方向移动;以及槽,其供所述移动部的下部嵌合,所述槽以向被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸,所述移动部能够相对于所述轴而沿左右方向移动,所述轨道和所述槽中的任一方以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。
在上述第一结构的足底按摩机中,也可以是如下结构(第二结构),其中,所述槽以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸,与所述移动部对置且形成有所述槽的对置面以向上方凸起的方式弯曲且沿前后方向延伸。
上述第一或者第二结构的足底按摩机中,也可以是如下结构(第三结构),其中,在所述足底按摩机的起动时,所述施疗件在与所述槽的以向所述被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点或者该顶点附近相同的前后方向位置处停止。
上述第一~第三中的任一项结构的足底按摩机中,也可以是如下结构(第四结构),其中,所述槽的以向所述被施疗者的左右方向的身体内侧凸起的方式弯曲而成的弯曲的顶点在前后方向上与所述槽的前端相比更靠近所述槽的后端。
在上述第一~第四中任一项结构的足底按摩机中,也可以是如下结构(第五结构),其中,所述轨道和所述槽中的任一方的以向上方凸起的弯曲而成的弯曲的顶点在前后方向上与所述槽的前端相比更靠近所述槽的后端。
在上述第一~第五中任一项结构的足底按摩机中,也可以是如下结构(第六结构),其中,所述足底按摩机具备从所述槽分支的分支槽。
在上述第六结构的足底按摩机中,也可以是如下结构(第七结构),其中,所述足底按摩机具备将所述移动部的下部向所述分支槽引导的引导机构。
在上述第一~第七中任一项结构的足底按摩机中,也可以是如下结构(第八结构),其中,所述足底按摩机具备:按摩单元,其具备所述轨道、所述轴、所述驱动机构、所述移动部、以及所述槽;基座构件;以及按摩单元驱动机构,其使所述按摩单元相对于所述基座构件而沿左右方向移动。
本说明书中所公开的椅子式按摩机是如下结构(第九结构),其中,所述椅子式按摩机具备:上述第一~第八中任一项结构的足底按摩机;座部;以及靠背部。
发明效果
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