[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

处理容器；

载波组生成部，其生成由分别具有彼此不同的频率的多个载波构成的载波组，其中所述频率属于以2450MHz为中心频率的40MHz的频带；和

使用所述载波组在所述处理容器内生成等离子体的等离子体生成部，

所述载波的频率以固定的间隔存在多个，

所述等离子体生成部使用在所述频带中具有400个以上且4000个以下的不同频率的所述载波的所述载波组来生成所述等离子体，以抑制所生成的等离子体的密度成为瞬间不连续的现象即模式跳变。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述载波组，是使用通过将波形数据量化并进行逆傅里叶变换而得的I数据和Q数据，对彼此相位相差90°的载波进行调制而生成的。

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

各所述载波的频率与时间的经过无关是固定的。

4.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个载波的振幅相同。

5.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

各所述载波的振幅与时间的经过无关是固定的。

6.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个载波中的在所述频带中频率相邻的至少2个载波的相位不同。

7.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述多个载波中的在所述频带中频率相邻的至少2个载波的相位相差90°。

8.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，还包括：

检测所述载波组的反射波的频谱的检测部；和

控制部，其控制所述载波组生成部，决定所述频带的宽度以使得作为与所述频谱的极小值对应的所述反射波的频率的极小反射频率存在于所述频带内。

9.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述载波组生成部，在利用所述等离子体对被处理体进行等离子体处理之前，生成由分别具有属于所述频带的彼此不同的频率的多个载波构成的另一载波组，

所述等离子体生成部使用所述另一载波组在所述处理容器内生成等离子体，

所述另一载波组中所包含的各所述载波的振幅，随时间的经过而变动，该振幅的极大值比所述载波组中所包含的各所述载波的振幅大。

10.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述载波组生成部，在利用所述等离子体对被处理体进行等离子体处理之前，生成所述载波组中所包含的所述多个载波中的至少一个载波，

所述等离子体生成部使用所述至少一个载波，在所述处理容器内生成等离子体，

所述至少一个载波的振幅，比进行所述等离子体处理时的所述至少一个载波的振幅大。

11.一种等离子体处理方法，其特征在于：

生成由分别具有彼此不同的频率的多个载波构成的载波组，其中所述频率属于以2450MHz为中心频率的40MHz的频带，

使用所述载波组在处理容器内生成等离子体，

所述载波的频率以固定的间隔存在多个，

包含于所述载波组中的所述多个载波的个数为400个以上且4000个以下，

使用在所述频带中具有400个以上且4000个以下的不同频率的所述载波的所述载波组来生成所述等离子体，以抑制所生成的等离子体的密度成为瞬间不连续的现象即模式跳变。