[发明专利]光学位移计有效

专利信息
申请号: 201910740376.9 申请日: 2019-08-12
公开(公告)号: CN110823124B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 土田佳孝 申请(专利权)人: 株式会社基恩士
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 北京格罗巴尔知识产权代理事务所(普通合伙) 11406 代理人: 孙德崇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 位移
【权利要求书】:

1.一种光学位移计,其使用光切法,所述光学位移计用于对测量对象的轮廓进行测量,所述光学位移计包括:

光投射单元,用于利用沿第一方向扩散的狭缝光或者沿所述第一方向扫描的点光来照射所述测量对象;

受光单元,其包括沿所述第一方向和与所述第一方向相交的第二方向配置的多个像素,并且用于接收来自所述测量对象沿所述第一方向的各位置的反射光、并输出受光量分布;

登记单元,用于在设置时,登记基准数据,所述基准数据用于指示用作所述测量对象的轮廓的基准的基准轮廓;

设置单元,用于在设置时,对所述基准数据设置掩模区域,所述掩模区域用于指示从所述受光单元所输出的受光量分布中的要忽略受光量的部分;

峰检测单元,用于在测量时,基于从沿所述第一方向配置的多个像素列分别输出的多个受光量分布,在各像素列中检测受光量在所述第二方向上的峰的位置;

轮廓生成单元,用于在测量时,基于所述峰检测单元所检测到的多个受光量分布各自中的峰的位置来生成所述测量对象的临时轮廓数据;以及

校正单元,用于在测量时,指定所述基准轮廓和基于所述临时轮廓数据的临时轮廓之间的位置偏移量,并且基于所指定的位置偏移量来校正针对所述临时轮廓的掩模区域的位置,

其中,在测量时,所述峰检测单元通过从与所述多个像素列分别相对应的多个受光量分布各自中排除所述校正单元校正后的掩模区域中的受光量,来再次检测所述第二方向上的峰的位置,以及

在测量时,所述轮廓生成单元基于所述峰检测单元再次检测到的峰的位置来生成所述测量对象的真实轮廓数据。

2.根据权利要求1所述的光学位移计,其中,

在设置时,所述设置单元还对所述基准数据设置用于检测所述临时轮廓的部分和所述基准轮廓之间的位置偏移的检测区域,以及

在测量时,所述校正单元指定所述基准轮廓在所述检测区域内的部分和所述临时轮廓中的与所述基准轮廓的该部分相对应的部分之间的位置偏移量。

3.根据权利要求1所述的光学位移计,其中,

在测量时,在所述峰检测单元针对与任意像素列相对应的受光量分布检测到多个峰的位置的情况下,所述轮廓生成单元基于预设条件来从该受光量分布中的多个峰的位置中确定一个峰的位置,并且基于所确定的峰的位置来生成所述临时轮廓数据。

4.根据权利要求3所述的光学位移计,其中,

所述预设条件包括如下的条件:从各受光量分布中的多个峰的位置中,将具有最大受光量的峰的位置确定为所述一个峰的位置。

5.根据权利要求3所述的光学位移计,其中,

所述预设条件还包括如下的条件:从各受光量分布中的多个峰的位置中,将离所述第二方向上的一端或另一端最近的峰的位置确定为所述一个峰的位置。

6.根据权利要求1所述的光学位移计,还包括:

滤波处理单元,用于对所述真实轮廓数据进行滤波处理,使得在所述轮廓生成单元所生成的所述真实轮廓数据的各部分,平滑效果随着所述真实轮廓数据的值的变化的变小而变大。

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