[发明专利]阵列基板及显示面板有效

专利信息
申请号: 201910740864.X 申请日: 2019-08-12
公开(公告)号: CN110571242B 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 方亮;丁玎 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L27/02;G02F1/1368;G02F1/1362
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 阵列 显示 面板
【说明书】:

发明提供一种阵列基板及显示面板,其阵列基板包括层叠设置的衬底、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层、源漏极层和钝化层;采用单栅极层设计,在栅极层内形成存储电容的第一电极板,在源漏极层内形成存储电容的第二电极板和各种功能连接线,通过各功能连接线实现不同膜层间的电流通路,从而省去了一层栅极结构,节省了一道光罩,降低了生产成本,缓解了现有显示装置存在生产成本高的问题。

技术领域

本发明涉及显示领域,特别涉及一种阵列基板及显示面板。

背景技术

现有显示装置为精确控制电流大小,改善发光均一性,驱动电路一般为如图1所示的7T1C补偿电路设计,该电路设计的栅极层采用双层设计,两层栅极分别作为储存电容的第一电极板和第二电极板。

然而,双层栅极的设计方式,增加了产品的生产成本。

因此,现有显示装置存在生产成本高的问题,需要解决。

发明内容

本发明提供一种新型阵列基板及显示面板,以缓解现有显示装置存在生产成本高的问题。

为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:

本发明提供一种阵列基板,其包括;

衬底;

缓冲层,形成于所述衬底上;

有源层,形成于所述缓冲层上,图案化形成薄膜晶体管的有源区,所述有源区包括掺杂区和沟道区;

栅极绝缘层,形成于所述有源层及所述缓冲层上;

栅极层,形成于所述栅极绝缘层上,图案化形成储存电容的第一电极板、栅极、扫描线;

层间绝缘层,形成于所述栅极层及所述栅极绝缘层上;

源漏极层,形成于所述层间绝缘层上,图案化形成所述储存电容的第二电极板、源极、漏极;

钝化层,形成于所述源漏极层以及所述层间绝缘层上。

在本发明的阵列基板中,所述第二电极板设置有缺口,所述缺口对应区域内设置有第一连接过孔;所述源漏极层还图案化形成有第一连接线,所述第一连接线的一端通过所述第一连接过孔,连接所述第一电极板,另一端通过第二连接过孔连接目标薄膜晶体管的掺杂区。

在本发明的阵列基板中,所述第一电极板形成有突出部,所述突出部对应区域内设置有第三连接过孔;所述源漏极层还图案化形成有第二连接线,所述第二连接线的一端通过所述第三连接过孔,连接所述第一电极板,另一端通过第四连接过孔连接目标薄膜晶体管的掺杂区。

在本发明的阵列基板中,所述源漏极层还图案化形成电源线以及电源连接线,所述第二电极板通过所述电源连接线与所述电源线连接。

在本发明的阵列基板中,所述源漏极层还图案化形成电源线,所述第二电极板的一侧边与所述电源线一体。

在本发明的阵列基板中,所述栅极层还图案化形成信号复位线,所述信号复位线在所述沟道区对应区域内中断;所述源漏极层还图案化形成复位连接线,信号复位线通过第五连接过孔连接所述复位连接线的一端,所述复位连接线的另一端通过第六连接过孔连接相邻子像素的信号复位线。

在本发明的阵列基板中,所述源漏极层还图案化形成复位转接线,信号复位线通过第七连接过孔连接所述复位转接线的一端,所述复位转接线的另一端通过第八连接过孔连接目标薄膜晶体管的沟道区。

同时,本发明还提供一种显示面板,其包括以上任一所述的阵列基板。

在本发明提供显示面板中,所述显示面板为LCD显示面板,所述LCD显示面板还包括:

彩膜基板;

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