[发明专利]一种直写光刻机的曝光系统

权利要求书

1.一种直写光刻机的曝光系统，其包括光源、匀光装置、中继透镜组、数字微反射镜阵列和曝光镜头，所述光源的光线依次通过所述匀光装置、所述中继透镜组、所述数字为反射阵列和所述曝光镜头，其特征在于，所述光源至少包括第一光源和第二光源，所述第一光源和所述第二光源的波长不同，所述匀光装置采用整合匀光装置，对所述第一光源和所述第二光源发出的光线进行整合匀光。

2.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述光源为波长范围在360nm-410nm的至少两个波长的光源的任意组合。

3.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述光源的波长为365nm、375nm、385nm、395nm或者405nm中至少两个波长的光源的任意组合。

4.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述第一光源和所述第二光源的波长为375nm、405nm。

5.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述匀光装置包括第一横向匀光棒、第二横向匀光棒和纵向匀光棒，所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒相对设置，所述纵向匀光棒垂直于所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒，所述第一光源和所述第二光源的光线在所述纵向匀光棒中整合。

6.根据权利要求4所述的曝光系统，其特征在于：所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒均具有入射面、反射面和出射面，所述第一横向光源和所述第二横向光源的反射面彼此相接，所述第一光源的光线经所述第一横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒，所述第二光源的光线通过所述第二横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒。

7.根据权利要求5所述的曝光系统，其特征在于：所述反射面与所述入射面的角度为45°。

8.根据权利要求4所述的曝光系统，其特征在于：所述第一横向匀光棒、所述第二横向匀光棒和所述纵向匀光棒一体成型；或者所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒均具有一柱状匀光棒和直角棱镜，所述柱状匀光棒和直角棱镜之间具有空气间隙或胶粘组合。

9.根据权利要求4所述的曝光系统，其特征在于：所述光源的数量大于2个，所述匀光装置中的横向匀光棒错位设置，或者所述匀光装置并排排列。

10.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于：所述曝光镜头为双远心曝光镜头。