[发明专利]光源系统及包括该光源系统的照明装置在审

专利信息
申请号: 201910746958.8 申请日: 2019-08-09
公开(公告)号: CN111474731A 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 张贤鹏 申请(专利权)人: 深圳市绎立锐光科技开发有限公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 袁江龙
地址: 518055 广东省深圳市南山区西丽街*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光源 系统 包括 照明 装置
【说明书】:

本申请公开了一种光源系统及包括所述光源系统的照明装置,该光源系统包括至少一个激光器,至少一个反射镜,和匀光转换组件。激光器发射的激发光经反射镜反射后进入匀光转换组件,被转换成受激光后从匀光转换组件中出射,匀光转换组件的出射受激光的区域的面积小于匀光转换组件接收激发光的表面的面积。通过上述方式,本申请提供的光源系统及包括该光源系统的照明装置减小了光源体积,并增强了出射光的颜色及亮度的均匀性。

技术领域

本申请涉及激光照明领域,特别涉及光源系统及包括该光源系统的照明装置。

背景技术

激光荧光技术是实现GaN基蓝光激光白光照明的主要技术路线,也可用于光谱变换的单色照明,具有亮度高、性能稳定等优点。

在激光荧光技术中,为了获得具有良好方向性的出射光束,通常需要用到激光激发荧光、荧光收集以及光束整形等技术,以实现较小的出光角度。同时,为了获得高亮度的出射光束,可以通过提高光源功率或减少发光面积来实现。

考虑实际制备及装配需求,激光光束照射荧光片时,通常光束要小于荧光片面积。由于激光荧光材料的发光强度受激发激光功率密度影响,容易存在荧光片发光不均匀的问题。通过成像系统收集、汇聚并整形后,这种荧光发光的不均匀性会影响出射光束的质量,因此需要通过匀光系统对光束进行均匀化。

但是,通常的光源系统中的匀光装置,受限于加工能力以及精度,对于1mm以下的尺寸,采用传统加工方式会导致大量的加工成本并降低成品率。

发明内容

本申请提供一种光源系统及包括光源系统的照明装置,能够解决现有技术中光源系统光束均匀性较差的问题。

为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是提供一种光源系统,包括:至少一个激光器,用于发射激发光;至少一个反射镜,位于激发光的光路上,用于反射激发光;匀光转换组件,位于被反射镜反射后的激发光的光路上,用于接收激发光并出射受激光,匀光转换组件的出射受激光的区域的面积小于匀光转换组件的接收激发光的表面的面积。

根据本申请的一实施方式,匀光转换组件包括:第一匀光元件,激发光从第一匀光元件的顶面入射第一匀光元件,第一匀光元件的顶面包括第一透光区域与包围第一透光区域的选择性透反区域,第一匀光元件的侧壁为反射结构,第一匀光元件的底面为第二透光区域;波长转换元件,设置在第一匀光元件底面用于吸收激发光并发出受激光,波长转换元件的底面设置有反射面;其中,选择性透反区域用于透射激发光并反射受激光。

根据本申请的一实施方式,第一匀光元件与波长转换元件之间存在间隙。

根据本申请的一实施方式,第一透光区域的面积小于第二透光区域的面积。

根据本申请的一实施方式,匀光转换组件包括:第二匀光元件,激发光从第二匀光元件的顶面入射第二匀光元件,第二匀光元件的顶面包括第一透光区域与包围第一透光区域的选择性透反区域,第二匀光元件的侧壁为反射结构,第二匀光元件底部设置有用于吸收激发光并发出受激光的波长转换结构,第二匀光元件底面设置有反射面;其中,选择性透反区域用于透射激发光并反射受激光。

根据本申请的一实施方式,匀光转换组件在顶端到底端方向上,横截面逐渐变小。

根据本申请的一实施方式,反射镜为凹反射镜或者全内反射镜。

根据本申请的一实施方式,光源系统还包括外壳,以及与外壳固定的第一热沉与第二热沉;其中,激光器承载于第一热沉上,匀光转换组件承载于第二热沉上,第一热沉与第二热沉组合式结构或为一体式结构。

根据本申请的一实施方式,光源系统还包括整形透镜,整形透镜设置在匀光转换组件的出射光的光路上。

根据本申请的一实施方式,匀光转换组件出射的受激光的主光轴与激光器出射的激发光的主光轴平行。

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