[发明专利]红外高光谱图像非均匀性校正方法、装置和计算机设备有效
申请号: | 201910749257.X | 申请日: | 2019-08-14 |
公开(公告)号: | CN110487412B | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 陈艳;王淑华;王广平;雷浩;陈伟力 | 申请(专利权)人: | 北京环境特性研究所 |
主分类号: | G01J5/00 | 分类号: | G01J5/00;G06T5/00 |
代理公司: | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人: | 张沫 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 红外 光谱 图像 均匀 校正 方法 装置 计算机 设备 | ||
本申请涉及图像处理技术领域,提供了一种红外高光谱图像非均匀性校正方法、装置、计算机设备和存储介质,包括:获取探测器阵列中各探测单元的响应曲线,将各探测单元的响应曲线归一化得到平均响应曲线;获取各光谱通道的图像,基于平均响应曲线对各光谱通道的图像进行两点法校正,得到各光谱通道上各像素的第一校正系数;根据各第一校正系数对各光谱通道进行非均匀性校正;获取各光谱通道对低温黑体真实响应值和平均响应值的第一差值,并获取各光谱通道对高温黑体真实响应值和平均响应值的第二差值;基于第一差值和第二差值获取光谱通道间的第二校正系数;根据第二校正系数对各光谱通道间进行非均匀性校正。
技术领域
本申请涉及信息处理领域,特别是涉及一种红外高光谱图像非均匀性校正方法、装置、计算机设备和存储介质。
背景技术
由于红外探测器材料、工艺及相关技术的限制,红外高光谱成像设备的非均匀性较为严重,这种非均匀性随环境和工作时间的变化而漂移,会直接影响到红外高光谱设备的成像质量。
传统的基于焦平面的非均匀性校正方法在对红外高光谱图像进行非均匀性校正时,会破坏目标的原始光谱曲线,导致非均匀性校正后目标的光谱曲线。
因此,有必要提供一种红外高光谱图像非均匀性校正方法,对红外高光谱图像非均匀性可以有效校正,且不会产生光谱曲线变型。
申请内容
本申请的目的在于提供一种红外高光谱图像非均匀性校正方法、装置、计算机设备和可读存储介质,可以对红外高光谱图像非均匀性进行有效校正,且不会产生光谱曲线变型。
本申请的目的通过如下技术方案实现:
一种红外高光谱图像非均匀性校正方法,所述方法包括:
获取探测器阵列中各探测单元的响应曲线,将各所述探测单元的所述响应曲线归一化得到平均响应曲线;
获取各光谱通道的图像,基于所述平均响应曲线对各所述光谱通道的图像进行两点法校正,得到各所述光谱通道上各像素的第一校正系数;
根据各所述第一校正系数对各所述光谱通道进行非均匀性校正;
获取各所述光谱通道对低温黑体真实响应值和平均响应值的第一差值,并获取各所述光谱通道对高温黑体真实响应值和平均响应值的第二差值;
基于所述第一差值和所述第二差值获取所述光谱通道间的第二校正系数;
根据所述第二校正系数对各所述光谱通道间进行非均匀性校正。
在一个实施例中,所述将各所述探测单元的所述响应曲线归一化的步骤,包括:
获取各所述探测单元的平均响应曲线;
将所述各所述探测单元的所述响应曲线映射为所述平均响应曲线。
在一个实施例中,所述基于所述平均响应曲线对各所述光谱通道的图像进行两点法校正,得到各所述光谱通道上各像素的第一校正系数的步骤,包括:
基于所述平均响应曲线获取低温黑体和高温黑体在各所述光谱通道上的平均响应;
基于各光谱通道的图像获取各所述光谱通道上各像素点对低温黑体和高温黑体的响应值;
根据上述低温黑体和高温黑体在各所述光谱通道上的平均响应以及各所述光谱通道上各像素点对低温黑体和高温黑体的响应值计算各所述光谱通道上各像素的第一校正系数。
在一个实施例中,所述第一校正系数包括各所述光谱通道上各像素的增益和偏置。
在一个实施例中,所述根据上述低温黑体和高温黑体在各所述光谱通道上的平均响应以及各所述光谱通道上各像素点对低温黑体和高温黑体的响应值计算各所述光谱通道上各像素的第一校正系数的步骤,包括:
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