[发明专利]一种利用In-Ga合金蒸发源制备大面积均匀性CIGS薄膜太阳能电池的方法有效

专利信息
申请号: 201910749760.5 申请日: 2019-08-14
公开(公告)号: CN110416367B 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 刘宽菲;张卫彪;任宇航 申请(专利权)人: 尚越光电科技股份有限公司;浙江尚越新能源开发有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/02;H01L31/032;H01L31/0392;C23C14/06;C23C14/24
代理公司: 杭州知见专利代理有限公司 33295 代理人: 赵越剑
地址: 311121 浙江省杭州市余杭区五*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 in ga 合金 蒸发 制备 大面积 均匀 cigs 薄膜 太阳能电池 方法
【权利要求书】:

1.一种利用In-Ga合金蒸发源制备大面积均匀性CIGS薄膜太阳能电池的方法,其特征在于,沉积有钼背电极层的钠钙玻璃衬底进入蒸发源室后,采用以下共蒸发工艺中的一种:

(1)一步共蒸发工艺

在硒气氛中,共蒸镓、铜和铟,使硒、镓、铜和铟沉积于衬底上,

(2)两步共蒸发工艺

第一步:在硒气氛中,共蒸镓和铟,使硒、镓和铟沉积于衬底上;

第二步:在硒气氛中,蒸发铜,使硒和铜沉积于衬底上;

(3)三步共蒸发工艺

第一步:在硒气氛中,共蒸镓和铟,使硒、镓和铟沉积于衬底上;

第二步:在硒气氛中,蒸发铜,使硒和铜沉积于衬底上;

第三步:在硒气氛中,共蒸镓和铟,使硒、镓和铟沉积于衬底上;

上述共蒸发工艺中镓和铟的蒸发源采用铟镓合金源;

所述铟镓合金源包括富镓合金源和富铟合金源;

一步共蒸发工艺中,沿着衬底的运行方向,各蒸发源的排布顺序为:硒源、富镓合金源、铜源及富铟合金源;

两步共蒸发工艺中,沿着衬底的运行方向,各蒸发源的排布顺序为:

第一步:硒源、富镓合金源及富铟合金源,

第二步:硒源及铜源;

三步共蒸发工艺中,沿着衬底的运行方向,各蒸发源的排布顺序为:

第一步:硒源、富镓合金源及富铟合金源,

第二步:硒源及铜源,

第三步:硒源、富镓合金源及富铟合金源。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:富镓合金源由镓和铟组成,其中镓的摩尔百分比为55-95%;富铟合金源由镓和铟组成,其中铟的摩尔百分比为55-95%。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:铟镓合金源的蒸发温度控制为800-1200℃。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:硒气氛为蒸发单质硒形成,蒸发单质硒的温度控制在300-650℃;采用单质铜作为铜的蒸发源,铜的蒸发温度控制为1000-1500℃。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:衬底进入蒸发源室后的走速控制为0.1-2m/min,温度控制为400-650℃,蒸发源室的真空度控制为0.001-0.5pa。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:

一步共蒸发工艺中,控制Ga/(In+Ga)比例在0.15~0.45之间;Cu/(In+Ga)比例在0.65~1.15之间;

两步共蒸发工艺中,第一步形成InGaSe薄膜,控制Ga/(In+Ga)比例在0.2~0.4之间;第二步形成CIGS薄膜,控制Cu/(In+Ga)比例在0.7~0.95之间;

三步共蒸发工艺中,第一步形成InGaSe薄膜,控制Ga/(In+Ga)比例在0.2~0.4之间;第二步形成富Cu的CIGS薄膜,控制Cu/(In+Ga)比例在0.9~1.1之间;第三步形成贫Cu的CIGS薄膜,最终控制Ga/(In+Ga)比例在0.2~0.4之间,且Cu/(In+Ga)比例在0.7~0.95之间。

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