[发明专利]一种利用In-Ga合金蒸发源制备大面积均匀性CIGS薄膜太阳能电池的方法有效
申请号: | 201910749760.5 | 申请日: | 2019-08-14 |
公开(公告)号: | CN110416367B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 刘宽菲;张卫彪;任宇航 | 申请(专利权)人: | 尚越光电科技股份有限公司;浙江尚越新能源开发有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/02;H01L31/032;H01L31/0392;C23C14/06;C23C14/24 |
代理公司: | 杭州知见专利代理有限公司 33295 | 代理人: | 赵越剑 |
地址: | 311121 浙江省杭州市余杭区五*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 in ga 合金 蒸发 制备 大面积 均匀 cigs 薄膜 太阳能电池 方法 | ||
1.一种利用In-Ga合金蒸发源制备大面积均匀性CIGS薄膜太阳能电池的方法,其特征在于,沉积有钼背电极层的钠钙玻璃衬底进入蒸发源室后,采用以下共蒸发工艺中的一种:
(1)一步共蒸发工艺
在硒气氛中,共蒸镓、铜和铟,使硒、镓、铜和铟沉积于衬底上,
(2)两步共蒸发工艺
第一步:在硒气氛中,共蒸镓和铟,使硒、镓和铟沉积于衬底上;
第二步:在硒气氛中,蒸发铜,使硒和铜沉积于衬底上;
(3)三步共蒸发工艺
第一步:在硒气氛中,共蒸镓和铟,使硒、镓和铟沉积于衬底上;
第二步:在硒气氛中,蒸发铜,使硒和铜沉积于衬底上;
第三步:在硒气氛中,共蒸镓和铟,使硒、镓和铟沉积于衬底上;
上述共蒸发工艺中镓和铟的蒸发源采用铟镓合金源;
所述铟镓合金源包括富镓合金源和富铟合金源;
一步共蒸发工艺中,沿着衬底的运行方向,各蒸发源的排布顺序为:硒源、富镓合金源、铜源及富铟合金源;
两步共蒸发工艺中,沿着衬底的运行方向,各蒸发源的排布顺序为:
第一步:硒源、富镓合金源及富铟合金源,
第二步:硒源及铜源;
三步共蒸发工艺中,沿着衬底的运行方向,各蒸发源的排布顺序为:
第一步:硒源、富镓合金源及富铟合金源,
第二步:硒源及铜源,
第三步:硒源、富镓合金源及富铟合金源。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:富镓合金源由镓和铟组成,其中镓的摩尔百分比为55-95%;富铟合金源由镓和铟组成,其中铟的摩尔百分比为55-95%。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:铟镓合金源的蒸发温度控制为800-1200℃。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:硒气氛为蒸发单质硒形成,蒸发单质硒的温度控制在300-650℃;采用单质铜作为铜的蒸发源,铜的蒸发温度控制为1000-1500℃。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:衬底进入蒸发源室后的走速控制为0.1-2m/min,温度控制为400-650℃,蒸发源室的真空度控制为0.001-0.5pa。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:
一步共蒸发工艺中,控制Ga/(In+Ga)比例在0.15~0.45之间;Cu/(In+Ga)比例在0.65~1.15之间;
两步共蒸发工艺中,第一步形成InGaSe薄膜,控制Ga/(In+Ga)比例在0.2~0.4之间;第二步形成CIGS薄膜,控制Cu/(In+Ga)比例在0.7~0.95之间;
三步共蒸发工艺中,第一步形成InGaSe薄膜,控制Ga/(In+Ga)比例在0.2~0.4之间;第二步形成富Cu的CIGS薄膜,控制Cu/(In+Ga)比例在0.9~1.1之间;第三步形成贫Cu的CIGS薄膜,最终控制Ga/(In+Ga)比例在0.2~0.4之间,且Cu/(In+Ga)比例在0.7~0.95之间。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的