[发明专利]X射线管用旋转阳极靶、制备方法及靶组件

权利要求书

1.一种X射线管用旋转阳极靶，其特征在于，包括靶盘和环形罩，其中，

所述靶盘包括基体和覆盖在所述基体上面的靶面层，所述基体的中心部设置有第一中心孔，所述靶面层的中心部设置有第二中心孔，

所述环形罩覆盖所述第一中心孔的内周侧壁并与基体连接，所述环形罩用于减少或阻挡所述基体散发的热量向周围扩散。

2.根据权利要求1所述的旋转阳极靶，其特征在于，

所述环形罩包括上段和由上段延伸出的下段，所述上段覆盖于所述第一中心孔的至少部分内周侧壁上，所述下段用于减少或阻挡所述基体的靠近所述第一中心孔的下表面层散发的热量向周围扩散。

3.根据权利要求1或2所述的旋转阳极靶，其特征在于，

所述环形罩的材质为钼或者钼合金，所述环形罩的壁厚为0.5～1.0mm。

4.根据权利要求2或3所述的旋转阳极靶，其特征在于，

所述环形罩的下段沿所述上段的底端水平向外周延伸并覆盖在所述基体的靠近所述第一中心孔的下表面上；优选地，所述环形罩下段的长度为5～20mm；

或，

所述环形罩的下段沿所述上段的底端竖直向下延伸，所述环形罩的上段的底端与所述第一中心孔的底端齐平，优选地，所述环形罩的下段的底端与所述第一中心孔的底端的距离为5～20mm；

或，

所述环形罩的下段为圆弧面，圆弧面由所述上段的底端向外周延伸，所述环形罩的上段的底端与所述第一中心孔的底端齐平，所述圆弧面在竖向截面的形状为二段圆弧；优选地，每段所述圆弧的弧长均为5～20mm，所述圆弧的半径为5～15mm；

优选地，所述环形罩的上段覆盖所述第一中心孔的全部内周侧壁；

优选地，所述基体和所述靶面层之间通过钎焊连接，所述基体和所述环形罩间通过钎焊连接。

5.根据权利要求1-4任一项所述的旋转阳极靶，其特征在于，

所述第一中心孔和所述第二中心孔共轴，所述第一中心孔的半径大于所述第二中心孔的半径；

所述靶面层的下表面中心部设置有向下延伸的凸起，所述凸起的横截面为圆环，所述圆环的内圆为所述第二中心孔的侧壁，所述圆环的外圆周壁与所述环形罩连接；

所述靶面层的下表面的外周设置有向下延伸的凸沿，所述凸沿包裹所述基体上端的外边缘；

在所述靶面层的上表面的外周部由外边缘向中心方向延伸有环形的斜面，所述斜面的内圆环的高度高于所述斜面的外圆环的高度，所述斜面为WRe轨道层；

优选地，所述基体的材质为碳基材料，更优选为石墨；进一步优选地，所述石墨为三高石墨；

进一步优选地，所述三高石墨的厚度为20-50mm。

6.一种X射线管用旋转阳极靶组件，其特征在于，所述旋转阳极靶组件包括：权利要求1-5任一项所述的旋转阳极靶、转轴和轴承组件，其中，

所述转轴的一端穿过所述基体的所述第一中心孔后进入所述靶面层的所述第二中心孔并与所述靶盘连接，所述转轴的另一端与所述轴承组件连接；

优选地，所述第一中心孔的侧壁与所述转轴之间的距离≥5mm。

7.权利要求1至5中任一项所述的旋转阳极靶的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

A、待焊件表面糙化处理：

对所述靶面层和所述基体的待焊表面进行直纹或者网纹滚花处理；

B、高温真空除气处理：

将经过步骤A处理后靶面层、基体以及环形罩进行清洗，对清洗后的靶盘、基体和环形罩进行高温真空除气处理；

C、真空钎焊：

将经过步骤B处理后的基体、环形罩和靶面层组装，并在基体、环形罩和靶面层之间的焊接接触部位分别置入清洗干净的钎焊料形成待焊工件，对待焊工件进行真空钎焊，真空钎焊完成后得到旋转阳极靶的毛坯复合件；

D、机械加工：

对步骤C中得到的毛坯复合件进行机械加工，然后对毛坯复合件进行动平衡处理，最后得到符合要求的X射线管用旋转阳极靶。