[发明专利]低折射率光学镀膜材料及其应用在审
| 申请号： | 201910753307.1 | 申请日： | 2019-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN110456427A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 秦海波 | 申请（专利权）人： | 北京富兴凯永兴光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02B1/10 |
| 代理公司： | 11255 北京市商泰律师事务所 | 代理人： | 黄晓军<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 102629北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学镀膜材料 低折射率 二氧化硅 五氧化二钽 五氧化二铌 添加剂 二氧化硅氧化物 二氧化硅材料 添加剂混合 高温熔融 高温烧结 基本性能 膨胀系数 塑料元件 折射率 氧化物 镀膜 膜裂 脱膜 引入 | ||
【权利要求书】：
1.一种低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述低折射率光学镀膜材料由二氧化硅和添加剂混合组成；其中，所述添加剂为五氧化二铌、五氧化二钽中的一种或两种。
2.根据权利要求1所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述低折射率光学镀膜材料的组成为：
二氧化硅：90-99.5wt％，添加剂：0.5-10wt％。
3.根据权利要求1或2所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述低折射率光学镀膜材料是所述二氧化硅和所述添加剂高温烧结后形成的混合物。
4.根据权利要求3所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述烧结温度为1100-1550℃。
5.根据权利要求1或2所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述低折射率光学镀膜材料是所述二氧化硅和所述添加剂高温熔融后形成的混合物。
6.根据权利要求5所述的低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述熔融温度为1800℃以上。
7.一种如权利要求1-6任一项所述的低折射率光学镀膜材料在用于制备光学元件、手机外壳或触摸屏中的应用。
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